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英特尔完成首个商用High NA EUV光刻机组装,为Intel 14A工艺开发做好准备

三星推迟High NA EUV导入,2030年助力1nm量产

8月12日,在韩国举行的“2026下一代光刻与图案化会议”(2026 Next-Generation Lithography + Patterning)上,三星电子技术副总裁朴昌民(ChangMin Park)表示,公司计划从1纳米(A10)制程节点开始,引入ASML的高数值孔径(High NA)极紫外(EUV)光刻机进行量产。这一时间点预计在2030年左右。
长江存储,杀入全球前三!

长江存储,杀入全球前三!

2026年二季度长江存储(YMTC)出货量同比增长了22%,环比增长5%,充分利用了普遍的市场供应短缺。它扩大了对国内OEM厂商的供应,同时大规模生产267层3D NAND,并推动基于Xtacking架构的300+层技术。
三星12层HBM4E样品正式出货

三星HBM4良率冲上80%,Q3营收预计将暴涨超3倍

8月11日消息,据韩国媒体《首尔经济日报》报道,三星电子在高带宽内存(HBM)领域取得重大进展,其第六代HBM4的良率已接近80%,达到了业界所称的“黄金良率”,这意味着量产流程更稳定,且对获利更有利。
三星2nm订单猛增130%,但晶圆代工业务2028年才能盈利

三星晶圆代工产能利用率将达100%

8月5日消息,据韩国媒体《朝鲜日报》报道,三星电子晶圆代工业务预计将在2026年下半年达成100%的产能利用率。虽然目前其产能利用率预计在70%至80%左右,但从接单余额与正在进行的合约进展来看,三星内外普遍认为年底达成100%产能利用率已成定局。
三星推迟美国泰勒晶圆厂开业时间,以便争取更多客户

三星宣布将在美国建1.4nm晶圆厂

据韩联社报道,三星电子于7月30日的第二季财报会议上宣布,预计今年底在美国德克萨斯州泰勒园区(Taylor)动工兴建第二座半导体晶圆厂“Taylor Fab 2”,目标是2030年量产1.4nm。

Q2获利暴增1814%!三星手机业务却首度亏损!

7月30日,在AI基础设施投资热潮的推动下,三星电子交出了公司史上最强的一份二季度财报,营收与营业利润连续三个季度刷新历史纪录,半导体部门贡献了几乎全部利润。然而,存储芯片价格的飙升却让三星自家手机部门首次沦为亏损的部门。

三星,也要用中国DRAM了?

7月27日,据韩国媒体《亚洲时报》报道,在全球半导体市场因“芯片通货膨胀”(零部件价格上涨)而动荡不安的背景下,中国手机市场已出现明显萎缩。三星电子正在积极考虑采用价格竞争力突出的“中国DRAM”,以此作为突破口,攻占中国本土中低端智能手机市场。
三星与博通达成2000亿美元战略合作

三星与博通达成2000亿美元战略合作

当地时间7月24日,在美国旧金山举行的人工智能峰会上,韩国总统李在明及SK集团、三星电子等韩国国内一些顶尖商业领袖和研究人员与包括英伟达、OpenAI、博通合作伙伴会面,共同探讨韩国的人工智能进展。