美国政府计划宣布扩大对俄罗斯的制裁

6月12日消息,据路透社报道,有知情人士今天表示,美国政府计划明天宣布扩大对俄罗斯的制裁,限制对俄罗斯出售半导体芯片等商品,目标锁定中国等第三方国家的对俄出口。

优睿谱成功交付客户SICE200设备

近日,上海优睿谱半导体设备有限公司(简称“优睿谱”)成功交付客户一款晶圆边缘检测设备SICE200,设备可用于硅基以及化合物半导体衬底及外延晶圆的边缘缺陷检测。

传美国将进一步限制GAA技术及HBM对华出口

图片
6月12日消息,据彭博社援引知情人士的话报道称,美国拜登政府希望进一步限制中国获得用于制造尖端芯片的全环绕栅极(GAA)晶体管技术,同时还有消息称,美国还将限制高带宽内存(HBM)技术的对华出口,这对人工智能加速器至关重要。

英伟达今年将消耗全球47%的HBM

6月11日消息,英伟达(NVIDIA)在COMPUTEX 2024主题演讲中提到,B100、B200和GB200将于今年第四季推出,2025年还将会推出Blackwell Ultra,2026年则会推出Rubin GPU,2027年还将会推出Rubin Ultra。

双光束超分辨光刻技术的发展和未来

近年来,随着芯片制造工艺的不断提高,光刻技术发展面临着一些难题,这些难题也影响着芯片行业发展及摩尔定律的持续性。然而,当前主流的极紫外光刻技术已经接近制造极限,需要更先进的技术来突破技术瓶颈。本文综述了基于双光束超分辨技术的光刻技术概念,并分析了其优势和潜力,同时提出了该技术面临的挑战和可能的解决方案,指出这种新型光刻技术有望在微纳制造领域扮演重要的角色。