标签: 3nm GAA

三星研发全新旗舰机芯片,以期带动自家先进制程晶圆代工业务

5月18日消息,据韩国经济日报(Korea Economic Daily)引述匿名产业消息人士报导称,三星正为旗下5G旗舰手机打造全新的处理器芯片,预计2023年完成芯片设计,2025年开始导入自家旗舰机。业界研判,三星将通过自研先进制程的5G旗舰芯片,让自家的先进制程晶圆代工练兵,并借此维持晶圆厂的产能利用率,以追赶台积电。

三星4nm制程良率仅35%,3nm GAA 制程良率刚达10%~20%

4月29日消息,据外媒Wccftech报导,韩国三星晶圆代工部门不仅4nm制程技术量产仍苦苦挣扎,3nm GAA架构节点制程也遇到大麻烦。按照目前的进度几乎可肯定,IC 设计大厂高通和联发科等公司将不会采用三星的3nm制程。

手握1000亿美元现金,三星欲挖台积电“墙脚”?TI/NXP/ST/瑞萨/英飞凌都是潜在目标

11月29日消息,据台湾《经济日报》报道,三星集团副会长李在镕赴美行程结束返回韩国之后,传出消息称,三星集团将凭借手上逾千亿美元的现金储备优势,可能择一收购或入股多家国际半导体大厂,潜在标的可能将包括德州仪器(TI)、瑞萨(Renesas)、恩智浦(NXP)、英飞凌(Infineon)、意法半导体(ST)等台积电重要客户。

传三星将扩大在美投资,2026年引入3nm GAA制程

目前台积电美国新晶圆厂正在建设当中,而三星的美国建厂计划则相对滞后,预计量产时间将落后台积电约一年。但是,在投资金额、产能规划及当地先进制程布局上,三星似乎并不逊于台积电。根据最新传出的消息称,三星规划要在2026年将3nm环绕闸极技术(GAA)制程引入美国厂,打造全美国最先进的晶圆厂,力求弯道超车。

三星冲刺3nm GAA制程,代工相关的流程设计工具已推出

三星正在奋力冲刺3nm制程,希望借此进一步缩小与台积电的差距。最新的信息显示,三星旗下晶圆代工事业部门已和全球电子设计自动化(EDA)巨头Cadence合作推出了3nm制程相关开发工具,加速相关先进制程开发的软件程序。相较之下,台积电亿与EDA厂商于5月推出了3nm相关开发工具,三星正以三至四个月的差距紧追在后。

实现5nm以下制程的关键技术:复旦教授成功攻克GAA晶体管技术

3nm、5nm关键技术:复旦教授成功验证实现GAA晶体管
12月17日消息,来自“复旦大学微电子学院”的消息显示,该校周鹏团队针对具有重大需求的3nm至5nm节点晶体管技术,验证了双层沟道厚度分别为0.6 /1.2nm的围栅多桥沟道晶体管(GAA,Gate All Around),实现了高驱动电流和低泄漏电流的融合统一,为高性能低功耗电子器件的发展提供了新的技术途径。据悉,相关成果已经在第66届IEDM国际电子器件大会上在线发表。