ASML预计2030年营收最高将达600亿欧元！
荷兰菲尔德霍芬，2024年11月14日——在今日举办的2024 年投资者日会议上，ASML将更新其长期战略以及全球市场和技术趋势分析，确认其到2030年的年收入将达到约440 亿至 600 亿欧元，毛利率约为56%至 60%。
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台积电年底前将接收首台High NA EUV光刻机
11月4日消息，据《日经亚洲》报导，全球最大的晶圆代工厂商台积电（TSMC）年底前会收到ASML最先进的High NA EUV（高数值孔径极紫外）光刻机，每台售价超过3.5亿美元，能使半导体制造商制造线宽更小的芯片。
美国商务部向纽约州EUV加速器项目提供8.25亿美元补贴
2024年10月31日，美国商务部和美国国家半导体技术中心 （NSTC） 的运营商 Natcast 公司共同宣布了第一个基于美国《芯片与科学法案》推动的芯片研发（R&D） 旗舰设施的建设计划，将在纽约州首府奥尔巴尼（Albany）的 NY CREATES 纳米技术综合体内，打造CHIPS for America EUV（极紫外）加速器。预计将获得8.25亿美元的拟议联邦投资的支持。
传三星已推迟其美国泰勒工厂EUV光刻机的交付
10月18日消息，据路透社报道，三星已经推迟了其位于美国德克萨斯州泰勒市在建的晶圆厂的ASML光刻机的交付，虽然不清楚具体的原因，但猜测可能与其尖端逻辑制程良率偏低，难以获得客户订单有关。
ASML业绩暴雷，中国营收占比将降至20%！股价暴跌超16%！
当地时间10月15日，荷兰光刻机大厂ASML公布了2024年三季度财报。虽然当季的销售额和毛利率符合预期，但新增订单环比大跌53%，不及市场预期的一半，同时还下调明年销售目标。此外，ASML还预计明年来自中国大陆的营收占比也将降至20%。
ASML CEO：即使西方芯片产能增加，亚洲仍是半导体产业中心！
10月11日消息，在出席参加台积电德国德累斯顿晶圆厂奠基仪式数周之后，荷兰光刻机大厂ASML总裁兼CEO Christophe Fouquet近日在接受《日经亚洲》专访时再度指出，西方国家芯片生产的增加，不太可能打破现有半导体产业的势力平衡，将该行业的重心从亚洲转移出去。
传三星将抢先台积电拿到High NA EUV光刻机
8月16日消息，据韩国首尔经济日报报道，三星将于2024年第四季度到2025年第一季在韩国华城园区开始安装首套High-NA EUV，预计2025年中启用，首先会用于开发2nm以下逻辑制程，以及先进的DRAM芯片制程。三星也计划与Lasertec、JSR、Tokyo Electron和Synopsys合作，打造High-NA EUV生态系统。
日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本将大幅降低！
8月7日消息，近日日本冲绳科学技术大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授带领的研究团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外（EUV）光刻机的双反射镜系统。相比传统的至少需要六面反射镜的配置，新的光学投影系统仅使用了两面反射镜，在确保系统维持较高的光学性能的同时，能让EUV光线以超过初始值10%的功率到达晶圆，相比传统系统中仅1%的功率来说，提了高到了原来的10倍，可说是一大突破。
imec展示基于High NA EUV曝光的逻辑与DRAM结构
近日，比利时微电子研究中心（imec）在荷兰 Eindhoven 与ASML合作建立的高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）光刻实验室中，利用径 0.55NA EUV光刻机 (TWINSCAN EXE:5000) ，发布了曝光后的图形化元件结构。
全球第二台High NA EUV光刻机即将进入英特尔奥勒冈州晶圆厂
8月6日消息，在近日的英特尔财报电话会议上，英特尔CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger）透露，全球第二台High NA （高数值孔径）EUV光刻机即将进入英特尔位于美国奥勒冈州的晶圆厂。
何时采用High NA EUV？台积电张晓强这样回应
近日，YouTube博主TechTechPotato发布与台积电资深副总暨副共同营运长张晓强29分钟的访谈。张晓强在访谈中回应了关于台积电何时采用高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）光刻设备的问题。
