高盛：中国光刻机仍停留在65纳米，落后ASML约20年！
9月2日消息，据外资投行高盛最新发布的研究报告称，虽然中国近年来在半导体领域发展迅速，但是在半导体制造关键环节的光刻机研发上仍存在瓶颈，而中国国产光刻机目前仍停留在65纳米，至少落后ASML约20年的时间。
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美国对欧盟生产的半导体设备免征15%关税
当地时间2025年7月27日，美国总统特朗普与欧盟委员会主席冯德莱恩达成了一项新的贸易协议。根据协议，美国将对大多数来自欧盟的商品征收15%的关税，较之前威胁的30%大幅降低。同时，欧盟承诺向美国追加6000亿美元的投资，并购买价值7500亿美元的美国能源产品。此外，协议还包括对一些战略性商品实施零关税，如飞机及其零部件、某些化学品、某些仿制药、半导体设备、某些农产品、自然资源和关键原材料。
ASML EUV光刻之路还能走多远？
目前全球几乎所有的7nm以下的制程工艺都全面采用了ASML的EUV光刻机来进行量产，同时随着DRAM制程进入到10nm，美光、三星、SK海力士等存储大厂也开始或计划导入EUV光刻机。
泛林集团在ALD和EUV光刻胶处理设备领域下重注
美国半导体设备大厂泛林集团（Lam Research）目前正重点关注两项关键技术——原子层沉积 (ALD) 和干式 EUV（极紫外）光刻胶处理相关设备。随着晶体管微缩越来越小、越来越复杂，这两项技术变得越来越重要。
Q1净利暴涨92%！ASML回应美国关税政策影响
2025年4月16日，光刻机大厂ASML发布2025年第一季度财报。虽然一季度整体业绩出现了环比下滑，但是同比均实现了大幅增长。对于近期美国特朗普关税政策所带来的影响，ASML的高管在财报会议上也进行了回应。
英特尔前CEO出任xLight董事长，推动FEL-EUV光源2028年商用！成本可降低3倍！
4月13日消息，英特尔前CEO帕特·基辛格近日在LinkedIn平台上发布博文称，其已经加入了 xLight 担任执行董事长。xLight官网上个月也公布了这一消息。
ASML业绩创历史新高，股价大涨！中国大陆净系统销售额占比跌至27%！
2025年1月29日，光刻机大厂ASML发布了2024年第四季度及全年财报，不仅季度及全年营收均创下了历史新高记录，同时四季度新增订单金额环比暴涨169.5%，远超分析师的预期。虽然受DeepSeek引发“AI算力需求重估”导致ASML美股1月27日大跌5.75%，但是随着ASML未来短期及长期指引均未受影响，叠加超预期2024年四季度及全年业绩，直接推动ASML在美股1月29日盘前股价大涨9.09%！不过开盘后股价最高涨幅不到7%，收盘涨幅回落至4.29%。
中芯国际市值将赶上台积电？国产EUV光刻机一旦成功，芯片战争就会结束！
近日，新加坡毕盛资产管理(APS Asset Management, “APS”) 的创始人兼联席首席投资官王国辉(Wong Kok Hoi)在接受彭博电视台的专门采访时表示，中芯国际可以利用其优势在未来达到与台积电相当的市值，同时他也阐述了看好中芯国际的理由，强调了这家中国芯片制造商内在实力的关键支柱。
美国研发新型BAT激光器：EUV能源效率提升10倍！
1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发出了一种名称为大孔径铥 （BAT） 激光器，旨在为极紫外 （EUV） 光刻技术的下一步发展奠定基础。该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳（CO2）激光器的 10 倍，并有望在多年后取代光刻系统中的 CO2 激光器。
传日本政府将对Rapidus追加1000亿日元出资
11月25日，据日本《共同通信》报导，日本政府已敲定方针，计划在2025年下半年对本土晶圆代工厂Rapidus追加1,000亿日元出资。此外，Rapidus预估将从现有股东、新股东筹措约1,000亿日元资金。也就是说，日本政府的出资额规模将同于民间资金。Rapidus计划利用筹得的资金、追加采购生产先进芯片所必需的EUV光刻机。
俄罗斯自研EUV光刻机计划曝光：采用11.2nm光源，每小时可处理60片12英寸晶圆
12月20日消息，据Cnews报导，俄罗斯已公布自主研发的光刻机路线图，目标是打造比ASML 系统更经济的EUV光刻机。这些光刻机将采用波长为11.2nm的镭射光源，而非ASML 使用的标准13.5nm波长。因此，新技术无法与现有EUV 基础设施相容，需要俄罗斯自行开发配套的曝光生态系统，可能需要数年甚至十年以上时间。
