据国产光刻胶大厂彤程新材官网消息,近期彤程新材的ArF光刻胶已实现批量出货。这意味着,彤程新材在光刻胶产品线上又取得了新突破。
据“湖北九峰山实验室”官方微信公众号消息,近日,九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队,支持华中科技大学团队突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。
12月25日A股盘后,国产半导体材料厂商鼎龙股份发布公告称,为助力推动半导体 KrF/ArF 光刻胶的国产替代进程,同时进一步丰富公司的业
务板块,加速实现公司进口替代“创新材料平台型企业”的战略发展目标,公司已审议通过了对全资子公司鼎龙(潜江)新材料有限公司(以下简称“潜江新材料”)实施增资并以增资扩股方式引入两家员工持股平台及一家新进投资方共同投资建设年产 300 吨KrF/ArF 光刻胶产业化项目。
11月9日晚间,国产半导体材料厂商鼎龙股份发布公告称,公司及下属子公司于今年相继收到多项光刻胶相关国家及省级重要项目立项通知,公司布局的三大领域光刻胶相关产品:集成电路晶圆光刻胶及核心原料、半导体先进封装用光刻胶、半导体柔性显示用光刻胶相关项目将获得项目经费支持合计不超过1.64亿元。
10月6日消息,近日Nature Nanotechnology发表了一篇题为《Light-Sensing Resistant Graphene Oxidewith Ultrafast and High-Resolution Patterning》的研究论文,该论文的作者是来自清华大学核能与新能源技术研究院何向明研究员和徐宏副教授和浙江大学光电科学与工程学院匡翠方教授。这项研究主要涉及到一种新型的光刻胶材料,可以大大提高光刻的效率,将传统方法的速度提升了1000倍以上。
6月24日消息,据日经新闻报道,日本政府支持的日本投资公司(JIC)正商谈以1万亿日元(约合人民币500亿元)收购用于半导体生产的光刻胶生产公司JSR(日本合成橡胶公司)。
5月24日晚,国产光刻胶大厂彤程新材发布公告称,于近日收到实控人Zhang Ning与Liu Dong Sheng的通知,二人经法院调解后离婚。经约定,双方通过直接、间接等方式持有的上市公司全部股权及收益均归Zhang Ning所有。
5月16日,日本富士电子材料公司( FUJIFILM) 公司宣布,其将在中国台湾新竹新建一座先进半导体材料厂,以拓展其电子材料业务。同时,其还将对原有的台南厂进行扩产。总投资金额将达150亿日元。
3月8日消息,今日业内传出消息称,某日本某光刻胶大厂已经执行美国“实体清单”的限制要求,对中国大陆某存储晶圆厂断供了KrF光刻胶。
1月29日消息,据日本产经新闻(Sankei)报导,随着韩国总统尹锡悦(Yoon Suk-yeol)在东亚安全环境紧张之际,积极寻求改善双边关系,日本正考虑放宽赴韩国科技制造业所需的原料出口管制。
10月24日消息,据业内人士援引国内头部晶圆厂内部消息爆料称,美国杜邦和德国AZ公司开始准备暂停供应中国大陆半导体材料,国内头部晶圆厂正在积极备货和加快国内半导体材料验证。
8月23日消息,据企查查资料显示,近期阜阳欣奕华材料科技有限公司(简称“阜阳欣奕华”)发生工商变更,新增华为旗下产业投资公司——深圳哈勃科技投资合伙企业(有限合伙)为股东,持股3.8057%。