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25年来重大更新!尼康推出5倍缩小的i-line步进式光刻机NSR-2205iL1

8月31日消息,尼康公司通过官网发布公告称,将推出型号为“NSR-2205iL1”的5倍缩小的 i-line 步进式光刻机,该产品将用于制造电力和通信半导体以及 MEMS 等各种器件。与现有的尼康 i-line曝光系统相比,NSR-2205iL1 具有出色的经济性,无论晶圆材料如何,都可以优化各种半导体器件的生产。预计将于2024 年夏季上市销售。
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无需EUV也能实现尖端制程,定向自组装技术再度兴起!

可以说在过去几十年,半导体产业在摩尔定律的推动下持续高速发展。但随着晶体管缩放尺寸逐渐逼近物理极限,半导体工艺制程的推进也越来越困难,“摩尔定律”已死的说法被越来越多的人认同。目前台积电、三星、英特尔等少数的尖端制程制造商,也只能依靠着越来越昂贵的EUV光刻机在艰难的推动半导体制程微缩,但是这依旧面临着非常多的工艺上的挑战以及成本难题。对此,科技界也希望寻找一些新的技术路径来改变目前的半导体制造困境,比如定向自组装(DSA)技术。
TWINSCAN NXT:2000i机器的特写图片。

浸没式光刻技术如何拯救摩尔定律?

2000年代初,芯片行业一直致力于从193纳米氟化氩(ArF)光源光刻技术过渡到157纳米氟(F 2 )光源光刻技术。就像艺术家希望用细线笔代替记号笔来绘制更精确、更详细的图片一样,这种向更小波长的重大转变是业界希望继续缩小晶体管并在芯片上实现更多计算能力和存储功能的希望。然而,意想不到的事态发展证明了将工程推向极限的风险,但物理定律并不同意。

尼康二季度光刻机销量仅6台,同比大跌60%!

8月9日消息,日本相机和光刻机大厂Nikon(尼康)于8月8日盘后公布了今年二季度(2023年4-6月)财报。虽然中高端数字相机销售强劲、出货量增加,但是由于光刻机销售量萎缩,导致合并营收虽然较去年同期增长了8.6%至1581.46亿日圆,但合并营业利润暴跌78.6%至32.9亿日元,合并净利润也暴跌了78.3%至25.76亿日元。