业界 单台3.5亿欧元!ASML首次公开展示High NA EUV光刻机:拐点将在2026年左右到来! 近日,全球光刻机大厂ASML展示了最新一代的High NA EUV光刻机,除了已经率先获得全球首台High NA EUV光刻机的英特尔之外,台积电和三星订购High NA EUV预计最快2026年陆续到位,届时High NA EUV将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备“武器”。2024年2月14日