ASML:High NA EUV更省时间与成本,目前已生产35万片晶圆

光刻机大厂ASML于11月19日在中国台湾举行媒体会,ASML中国台湾暨东南亚区客户营销主管徐宽成指出,随着半导体制程技术持续不断微缩,High NA EUV光刻机将有助于客户节省时间及成本,目前客户已有英特尔、IBM 及三星等,累积超过35万片晶圆使用High NA EUV光刻机曝光。









荷兰当地时间11月19日,荷兰经济事务部通过官网发布公告称,部长Vincent …



11月19日消息,据韩国媒体ETNews报道,为应对旺盛的市场需求,三星电子全面…