英特尔技术开发主管Ann Kelleher即将退休，原代工和供应链部门总经理接任

3月23日消息，据Tom's Hardware报道，英特尔已宣布，其执行副总裁 、技术开发主管Ann Kelleher 博士计划在今年晚些时候退休，原英特尔首席全球运营官、执行副总裁兼英特尔代工制造和供应链部门总经理Naga Chandrasekaran 将接替他的工作。

资料显示，Ann Kelleher 来自爱尔兰，于 1996 年加入英特尔，从工艺工程师一路晋升为工厂经理、英特尔的技术开发主管和执行副总裁 ，她在英特尔公司已经工作了近三十年。自 2020 年以来，她一直领导英特尔公司的制程工艺技术的开发，并彻底重建了整个组织，以支持时任英特尔CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger） 极其激进的4年实现5个先进制程节点的路线图，即在四年内开发五个新的生产节点。在退休后，Ann Kelleher 仍将担任英特尔英特尔代工及其差异化技术开发产品、小芯片标准和软件顾问以及美国和欧洲产能的战略顾问。

△Ann Kelleher 博士

在Ann Kelleher退休后，Naga Chandrasekaran 将被任命为 Intel Foundry 的技术和运营主管，他将负责监督前端工艺技术的开发和制造。在此职位上，他将负责技术开发 （TD） 小组和晶圆制造和供应链 （FMSC） 组织（自 2024 年年中以来他一直在监督该组织）。

需要指出的是，英特尔这一高管变动是在新任CEO陈立武上任两天之后宣布的，但该计划早在去年秋天就已经确定。当时，英特尔已经宣布Ann Kelleher 博士即将离职退休并由Naga Chandrasekaran接替的消息，但是并未透露Ann Kelleher 博士的具体退休时间。

“正如之前宣布的那样，Ann Kelleher 博士计划在今年晚些时候退休，此前他在英特尔度过了近 30 多年的杰出职业生涯，”英特尔的一份声明中写道：“凭借强大的代工领导团队，以及Intel 18A 在我们首次产品发布和外部客户流片之前取得的进展，随着我们继续推进代工客户服务的优先事项，这是一个精心策划的过渡。”

资料显示，Chandrasekaran 拥有马德拉斯大学机械工程学士学位、俄克拉荷马州立大学机械工程硕士和博士学位、加州大学伯克利分校信息与数据科学硕士学位以及加州大学洛杉矶分校（UCLA-安德森管理学院）和新加坡国立大学双工商管理硕士学位。他还曾在美光公司工作了 20 多年期间，并担任美光公司工艺研发和运营高级副总裁等多个高级领导职务。他还领导了美光公司与当前内存技术、先进封装技术和新兴技术解决方案扩展相关的全球技术开发和工程工作。他的经验涵盖半导体制造和研发的各个方面，包括工艺和设备开发、器件技术、掩模技术等。

△Naga Chandrasekaran 博士

2024年7月下旬，英特尔公司宣布任命 Naga Chandrasekaran 博士为首席全球运营官、执行副总裁兼英特尔代工制造和供应链部门总经理，并向当时的首席执行官 Pat Gelsinger 汇报工作。

随着Ann Kelleher 博士的即将退休，Naga Chandrasekaran 将出任Intel Foundry 的技术和运营主管接替Ann Kelleher 博士的工作。

英特尔表示，Naga Chandrasekaran 在统一技术开发和生产团队以作为一个单一的、有凝聚力的单元运作方面发挥了关键作用。通过此次任命，英特尔期待将 TD 和生产整合到一个领导下，这可能是为了确保快速斜坡、低缺陷密度（高良率）和低性能可变性。

对于英特尔来说，现在正处于一个非常关键时刻，其最新的Intel 18A制程今年即将量产，并有望与竞争对手台积电最新的2nm制程进行竞争。Ann Kelleher 博士在公司的希尔斯伯勒研究工厂中监督了这项新技术的开发。

今年2月下旬，英特尔通过官网正式上线了对于其最尖端的Intel 18A制程工艺的介绍，并称其已经“准备就绪”。根据外界预计，Intel 18A将于2025 年年中进入量产，将由酷睿 Ultra 300 系列“Panther Lake”处理器首发，预计将于今年下半年上市。

根据英特尔官网的介绍资料显示，Intel 18A采用了RibbonFET 环栅 (GAA) 晶体管技术，可实现电流的精确控制，同时还率先采用了业界首创的 PowerVia 背面供电技术，可将密度和单元利用率提高 5% 至 10%，并降低电阻供电下降，从而使 ISO 功率性能提高高达 4%，并且与正面功率设计相比，固有电阻 (IR) 下降大大降低。

与Intel 3 工艺节点相比，Intel 18A的每瓦性能提高 15%，芯片密度提高 30% 。英特尔称之为北美制造的最早可用的2nm以下先进节点，可以为客户提供有弹性的供应替代方案。

根据研究机构TechInsights的测算，得出的 Intel 18A 的性能值为2.53，台积电N2的性能值为2.27，三星SF2的性能值为2.19。也就是说，Intel 18A 在 2nm 级工艺中具有最高性能，台积电N2位居第二，三星SF2位居第三。

今年3月初，据路透社援引两名知情人士的话报道称，美国两大芯片巨头英伟达（NVIDIA）和博通（Broadcom）正在基于英特尔最新的Intel 18A制程进行制造测试，这显示出对这家陷入困境的公司先进生产技术的初步信心。此外，另一家处理器大厂AMD也在评估Intel 18A 制造工艺是否符合其需求。

随后，在3月中旬，英特尔工程经理Pankaj Marria通过LinkedIn发文指出，“Intel 18A制程迎来重要里程碑！很荣幸加入‘Eagle Team’，一同落实Intel 18A，我们的团队率先完成亚利桑那州的首批生产，先进半导体制程迈出了关键一步。”

根据预计，目前英特尔可能已经完成了Intel 18A-P、Intel 3E、Intel 3PT等制程的所有的研发工作，以及下一代的Intel 14A制程的大部分研发里程碑，为英特尔未来几年的技术发展奠定了基础。正因为如此，Ann Kelleher 博士才计划在今年晚些时候退休。

编辑：芯智讯-浪客剑