林本坚:浸没式DUV可以做到5nm,但成本将非常高!

11月27日消息,据台媒DigiTimes报道,近日有着“浸润式光刻之父”之称的林本坚(Burn Lin)在接受采访时表示,依靠DUV光刻机继续将制程工艺从7nm推向5nm是可能,但是需要付出高昂的代价。

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报道称,由于美日荷对华半导体设备的限制,使得中国不仅难以获得可以制造先进制程的半导体设备,同时更为先进的EUV光刻机也无法获得。这也使得中国继续将制裁工艺推进到5nm将会面临困境。

不过,林本坚表示,依托现有的DUV光刻机(浸没式)制造出5nm芯片依然是可行的,但是至少需要进行四重曝光。不幸的是,这种工艺的缺点是不仅耗时,而且价格昂贵,还会影响整体良率。

特别是在使用 DUV 机器时,在多次曝光期间需要精确对准,这可能需要时间,并且有可能发生未对准的情况,从而导致产量降低和制造这些晶圆的时间大幅增加。

林本坚表示,浸没式DUV光刻技术最高可以实现六重光刻模式,可以实现更先进的工艺,但问题同样来自上述相关缺点。

编辑:芯智讯-林子

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