Intel 4 制程工艺良率超预期

8月24日消息，据韩国媒体报道，英特尔副总裁兼逻辑科技研发产品工程经理William Grimmi近日在马来西亚受访时表示，运用极紫外光（EUV）光刻设备，使得英特尔得以控制其Intel 4的复杂制程，并且良率高于预期。

关于Intel 4制程，有媒体认为其相当于台积电的7nm，不过根据英特尔此前公布的命名规则，Intel 4实际对标的是台积电4nm工艺。半导体研究机构IC Knowledge之前也曾指出，Intel 4 制程性能优于台积电的5nm，比较接近台积电、三星电子的3nm。预计今年9月英特尔推出的Meteor Lake将会采用Intel 4 制程。

William Grimmi也表示，英特尔对照第三方标竿测试，自行评估了“性能/功耗/面积”（指performance、power、area，简称PPA），Intel 4 不太容易跟其他晶圆厂的前几代制程互做比较。

Grimm指出，Intel 4 制程的重点在于电力效率（power efficiency），Intel 7 制程的重点则在于把性能最大化。他说，以Intel 4 制程打造的芯片，最适合应用于笔记本电脑。另外，Intel 3 预计将在2023年稍晚些时候量产。

值得一提的是，英伟达CEO黄仁勋于5月30日在中国台湾接受采访时曾表示，“我们对于委托英特尔代工持开放态度。”英特尔CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger）之前也曾透露英伟达正在评估其制程工艺，最近也收到了英特尔次代制程测试芯片的报告，结果看来不错。

今年1月，英特尔也曾宣布获得了3nm的晶圆代工订单。基辛格当时表示，“Intel 3制程增添了某家一线客户，这家客户是云端、边缘计算及数据中心解决方案的领导提供商。”外界猜测，这家可能可能就是英伟达。

编辑：芯智讯-林子