
7月28日,三菱电机宣布投资Novel Crystal Technology,该公司开发、制造和销售氧化镓(Ga 2 O 3 )晶圆,该晶圆作为下一代功率半导体晶圆而备受关注。
近年来,随着全球对于碳中和目标的推进,使得市场对有助于提高电力效率的功率半导体的需求不断增加。其中,除了已用作半导体材料的硅(Si)之外,还正在开发碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)。
三菱电机已将使用Si和SiC的功率半导体产品商业化,为电力电子设备的节能做出了贡献。该公司致力于将氧化镓作为材料,以实现更高耐压和更低功率损耗的功率半导体产品。
Novel Crystal Technology 拥有在世界范围内较早开始功率半导体用氧化镓晶圆的开发、制造和销售的记录。该公司目前的业务范围为氧化镓外延膜衬底的制造和销售,单晶、半导体及其应用产品的制造和销售,以及三菱电机开发功率半导体所需的氧化镓晶圆。
未来,三菱电机将把多年培育的低功率损耗、高可靠性功率半导体产品设计和制造技术与Novel Crystal Technology的氧化镓晶圆制造技术相结合,以实现优异的能源效率,并加速研究以及使用氧化镓的功率半导体的开发。
编辑:芯智讯-林子
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