英特尔研发全新内存架构XBM,目标2030年商用

随着AI芯片需求暴增,现有的HBM(高频宽内存)面临缺货、价格高昂及高功耗等挑战,业界甚至开始寻求LPDDR作为替代方案。

英特尔近日公布了一项新的专利,披露了一种名为XBM(Cross-Batch Memory,跨批次内存)的新型高带宽内存架构。该技术旨在解决当前AI加速器面临的“内存墙”瓶颈,并被定位为未来HBM4的潜在替代方案,有望在封装成本、带宽密度和集成灵活性上实现突破,瞄准2030年之后的商业化市场。

最新专利显示,XBM的核心优势在于采用了1T1C(一晶体管一电容)的后端DRAM技术。这项技术将晶体管制作于后段制程(BEOL)的金属层中,而非传统的前端硅晶圆上。这种设计大幅提升了芯片的面积利用率,从而释放更多空间来增加硅通孔(TSV)的密度,带来显著的带宽和存储密度提升。

在技术规格方面,每个XBM裸晶的容量在0.5GB至5GB之间,可进行8层或16层堆叠。其中,通道运行频率为2GHz,每个子通道包含12个数据块,所以8层堆叠的XBM,总共可提供多达96个数据块(Datablock)。而16层堆叠(16-high)方案则可提供高达192个数据内存块。

针对多层堆叠带来的良率挑战,XBM还内建了强大的修复机制,包括内置自检(BIST)、冗余和修复能力(如备用通道),旨在封装完成后仍能进行修复,提升整体良率。

此外,XBM最显著的变化在于其互连方式。与依赖昂贵硅中介层和超宽并行接口的传统HBM不同,XBM计划使用通用小芯片互连 express(UCIe)这一开放标准进行连接。根据专利描述,XBM的UCIe I/O模块运行速度最高可达 32 GT/s。这一设计使XBM成为原生的小芯片(Chiplet)设计,有望简化封装流程、降低制造成本。

英特尔 XBM HBM 基础芯片平面图

△基础芯片平面图标注UCIe模块、BISR/解码/调试区域,以及用于修复的备用通道

需要指出的是,英特尔的XBM专利申请的大部分内容并不涉及存储单元,而是如何安装它。英特尔详细介绍了封装内存(MoP)和“反向上悬”结构,旨在削减堆栈的Z高度——传统MoP可增加300至350微米(微米)——同时去除通常用于控制变形和直接从电压调节器供电DRAM电源所需的加强件,进一步优化成本和尺寸。

封装上的存储截面 Intel XBM HM

△封装内存横截面,芯片堆叠位于SoC模块两侧

与目前主流的HBM不同,XBM是一项面向未来的技术。报道普遍认为,XBM的商业化时间点预计在2030年之后,届时将可能与HBM5、HBM6等产品竞争。值得注意的是,XBM与英特尔此前宣布与软银旗下SAIMEMORY合作开发的ZAM(Z-Angle Memory)是两个不同的独立项目。这显示出英特尔至少在同步探索两条不同的未来内存技术路线。

需要说明的是,XBM目前仅是一项专利申请,于2024年12月提交,距离成为最终产品还有相当距离。该技术仍需在制造可行性、成本效益及生态系统支持等方面得到验证。

编辑:芯智讯-浪客剑

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