中微公司：2025年LPCVD和ALD设备营收暴涨224.23%

1月23日晚间，国产半导体设备大厂中微公司披露了2025年业绩预告，经财务部门初步测算，预计2025年营业收入约123.85 亿元，同比增长约 36.62%。

其中，2025 年刻蚀设备销售约98.32亿元，同比增长约 35.12%； LPCVD 和 ALD 等半导体薄膜设备收入5.06 亿元，同比增长约 224.23%。

预计归属于母公司所有者的净利润为 20.80 亿元至 21.80 亿元，同比增长约 28.74%至 34.93%；预计扣除非经常性损益的净利润为 15.00 亿元至 16.00 亿元，同比增加约8.06%至15.26%。

对于本期业绩变化的主要原因，中微公司解释称：

2025 年度业绩预计较上年同期增长的主要原因如下：

1. 公司主营产品等离子体刻蚀设备作为半导体前道核心设备之一，市场空间广阔，技术壁垒较高。公司的等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产。

公司在新产品开发方面取得了显著成效，近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备，目前已有多款新型设备产品进入市场，其中部分设备已获得重复性订单，LPCVD 设备累计出货量突破三百个反应台，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进；公司 EPI 设备已顺利进入客户端量产验证阶段。公司持续保持国际氮化镓基 MOCVD 设备市场领先地位，积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场，并在 Micro-LED 和其他显示领域的专用MOCVD 设备开发上取得了良好进展，几款 MOCVD 新产品进入客户端验证阶段。公司新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光 LED 应用的设备已付运至国内领先客户开展验证，目前进展顺利。

公司在南昌约 14 万平方米的生产和研发基地、上海临港的约18 万平方米的生产和研发基地已经投入使用，保障了公司销售快速增长。公司持续开发关键零部件供应商，推动供应链稳定、安全，设备交付率保持在较高水准，设备的及时交付也为公司销售增长提供有力支撑。公司特别重视核心技术的创新，始终强调创新和差异化并保持高强度的研发投入，同时公司运营管理水平持续提升，对产品成本及运营费用的控制能力有效增强。

2. 归母净利润同比增加 4.64 亿元至 5.64 亿元（增加约28.74%至34.93%）的主要原因：

（1）2025 年营业收入增长 36.62%下，毛利较去年增长约11.45亿元。

（2）由于市场对中微开发多种新设备的需求急剧增长，2025 年公司显著加大研发力度，以尽快弥补国产半导体设备短板，积极赶超，为长期持续增长打好基础。2025 年公司研发投入约 37.36 亿元，较去年增长 12.83 亿元（增长约52.32%），

2025 年研发投入占公司营业收入比例约为 30.16%，远高于科创板上市公司均值。2025 年研发费用约 24.72 亿元，较去年增长约 10.54 亿元（增长约74.36%）。

（3）由于二级市场股价波动以及公司出售了部分持有的上市公司股票，经评估师初步评估，公司 2025 年计入非经常性损益的股权投资收益为6.11 亿元，较上年同期的股权投资收益的 1.98 亿元增加约 4.13 亿元。

3. 扣非后归母净利润同比增加 1.12 亿元至 2.12 亿元（增加约8.06%至15.26%）的主要原因：主要由于 2025 年营业收入增长36.62%，毛利较去年增长约 11.45 亿元，以及 2025 年研发费用较去年增长约 10.54 亿元。

编辑：芯智讯-林子