标签: EUV光刻机

ASML High-NA EUV 光刻机最新进展:目标2024-2025年进厂

光刻机在半导体领域一向是个热门话题,这个能一次又一次突破工艺极限的设备仿佛一个时光机器,连接着芯片的现在和未来。从ASML宣布将推出下一代光刻机开始,人们的目光就从当前最新一代的0.33 NA光刻系统转移到了下一代0.55NA 光刻系统身上。
ASML新一代EUV光刻机万事俱备:逼近物理极限

ASML新一代EUV光刻机万事俱备:逼近物理极限

光刻机在半导体领域一向是个热门话题,这个能一次又一次突破工艺极限的设备仿佛一个时光机器,连接着芯片的现在和未来。从ASML宣布将推出下一代光刻机开始,人们的目光就从当前最新一代的0.33 NA光刻系统转移到了下一代0.55NA 光刻系统身上。
日本限制对韩出口的背后:控制了全球52%的半导体材料市场

ASML CEO访韩或与三星洽谈合作,英特尔CEO也将再访台积电

4月6日消息,据外媒报道,英特尔CEO基辛格正启程前往亚洲拜访客户和供应商。此行也将到访中国台湾并拜访台积电,这也是他继去年12月与台积电高层会面后的第二次会晤。此外,荷兰半导体设备制造商ASML(阿斯麦)CEO彼得·温宁克(Peter Wennink)也正在韩国与当地头部晶圆厂讨论合作。从英特尔与ASML高层频频到亚洲的行动来看,也凸显出两大厂都意识到亚洲在全球半导体业的重要地位。

投资6.7亿卢布,俄罗斯宣布研发X射线光刻机!比ASML的EUV光刻机还要先进?

光刻机是半导体行业的明珠,美国希望在这个领域牢牢掌握主动权,因此对中俄等均进行严格的限制和制裁,中国一直没有最先进的EUV光刻机。而在俄乌冲突之际,昨天,美国更是对俄罗斯最大的芯片制造企业Mikron进行全方位制裁。近日,据俄罗斯媒体报道称:俄罗斯将研发当前全球最先进的X射线光刻机,或许比ASML的EUV光刻机性能更先进。
Intel EUV极紫外光刻设备进厂:冲刺“4nm”工艺

Intel EUV极紫外光刻设备进厂:冲刺“4nm”工艺

1月20日消息,位于爱尔兰莱克斯利普(Leixlip)、投资70亿美元的Intel Fab 34晶圆厂迎来重要时刻:一台光刻胶显影设备(lithography resist track)缓缓进入工厂,这也是该厂的第一台巨型芯片制造工具。该设备来自Intel美国俄勒冈州工厂,搭乘飞机越过大西洋,来到了爱尔兰。

ASML下一代高精准度EUV光刻机售价将高达3亿美元

对于半导体制造来说,光刻机是极为关键的设备。数据显示,在先进制程产线当中,光刻机的成本占比高达22%,同时也在所有制造工序所消耗的时间当中占据了20%。而全球光刻机大厂ASML独家供应的EUV光刻机,则是制造7nm以下先进制程的必备设备。