业界 三星李在镕出访欧洲:不仅为了抢购EUV光刻机,还将洽谈投资收购恩智浦? 6月7日消息,韩国媒体传出消息称,三星集团副会长李在镕将将于今日开始至6月18日访问欧洲,并将拜访荷兰光刻机大厂阿斯麦(ASML)。外界认为,三星此举或许是为了抢购ASML的极紫外光(EUV)设备以及下一代EUV光刻机的合作,以便与台积电在晶圆代工方面进行竞争。2022年6月7日
业界 ASML High-NA EUV 光刻机最新进展:目标2024-2025年进厂 光刻机在半导体领域一向是个热门话题,这个能一次又一次突破工艺极限的设备仿佛一个时光机器,连接着芯片的现在和未来。从ASML宣布将推出下一代光刻机开始,人们的目光就从当前最新一代的0.33 NA光刻系统转移到了下一代0.55NA 光刻系统身上。2022年5月30日
业界 ASML新一代EUV光刻机万事俱备:逼近物理极限 光刻机在半导体领域一向是个热门话题,这个能一次又一次突破工艺极限的设备仿佛一个时光机器,连接着芯片的现在和未来。从ASML宣布将推出下一代光刻机开始,人们的目光就从当前最新一代的0.33 NA光刻系统转移到了下一代0.55NA 光刻系统身上。2022年5月29日
业界 ASML一季度净利润6.95亿欧元,新增订单70亿欧元 4月20日消息,光刻机巨头ASML近日发布了2022年第一季度财报。根据财报显示,该财季ASML实现净销售额35亿欧元,毛利率为49%,净利润6.95亿欧元,新增订单金额70亿欧元。2022年4月21日
业界 ASML CEO访韩或与三星洽谈合作,英特尔CEO也将再访台积电 4月6日消息,据外媒报道,英特尔CEO基辛格正启程前往亚洲拜访客户和供应商。此行也将到访中国台湾并拜访台积电,这也是他继去年12月与台积电高层会面后的第二次会晤。此外,荷兰半导体设备制造商ASML(阿斯麦)CEO彼得·温宁克(Peter Wennink)也正在韩国与当地头部晶圆厂讨论合作。从英特尔与ASML高层频频到亚洲的行动来看,也凸显出两大厂都意识到亚洲在全球半导体业的重要地位。2022年4月6日
业界 投资6.7亿卢布,俄罗斯宣布研发X射线光刻机!比ASML的EUV光刻机还要先进? 光刻机是半导体行业的明珠,美国希望在这个领域牢牢掌握主动权,因此对中俄等均进行严格的限制和制裁,中国一直没有最先进的EUV光刻机。而在俄乌冲突之际,昨天,美国更是对俄罗斯最大的芯片制造企业Mikron进行全方位制裁。近日,据俄罗斯媒体报道称:俄罗斯将研发当前全球最先进的X射线光刻机,或许比ASML的EUV光刻机性能更先进。2022年4月2日
业界, 深度 ASML EUV工厂探秘,HigH NA EUV光刻机首度公开亮相 当地时间3月23日, 美国消费者新闻与商业频道(CNBC)发布了针对全球光刻机龙头ASML的采访视频,不仅展示了ASML的EUV光刻机工厂,还展示了ASML新一代高数值孔径 (High-NA) EUV光刻机EXE:5000系列。2022年3月28日
业界 ASML:仍未获得向中国出口最新光刻机许可 1月21日消息,据路透社报道,荷兰光刻机巨头ASML 首席执行长彼得‧温尼克(Peter Wennink)近日对外表示,截至目前仍未获得向中国芯片制造商出口最新光刻机的许可。2022年1月21日
业界 单价超3亿美元!Intel拿下ASML首批第二代High-NA光刻机,2nm将抢先量产! 1月19日,全球光刻机巨头ASML公布了最新的财报,其2021年第4季度及2021全年业绩均创历年新高且优于预期。ASML还宣布其2022年一季度,其第二代高数值孔径(High-NA)光刻机TWINSCAN EXE:5200获得了首个订单,这也意味着这款可以被用于2nm芯片制造光刻机的有望在2024年交付。2022年1月20日
业界 Intel EUV极紫外光刻设备进厂:冲刺“4nm”工艺 1月20日消息,位于爱尔兰莱克斯利普(Leixlip)、投资70亿美元的Intel Fab 34晶圆厂迎来重要时刻:一台光刻胶显影设备(lithography resist track)缓缓进入工厂,这也是该厂的第一台巨型芯片制造工具。该设备来自Intel美国俄勒冈州工厂,搭乘飞机越过大西洋,来到了爱尔兰。2022年1月20日
业界 日本半导体厚积薄发:欲在十年内量产2nm 据报道,东京电子前首席执行官 、日本政府芯片行业咨询小组的成员Tetsuro (Terry) Higashi日前表示,日本必须在十年内实现 2nm 量产。2021年12月30日
业界 ASML下一代高精准度EUV光刻机售价将高达3亿美元 对于半导体制造来说,光刻机是极为关键的设备。数据显示,在先进制程产线当中,光刻机的成本占比高达22%,同时也在所有制造工序所消耗的时间当中占据了20%。而全球光刻机大厂ASML独家供应的EUV光刻机,则是制造7nm以下先进制程的必备设备。2021年12月22日