摘要:1月21日消息,据路透社报道,荷兰光刻机巨头ASML 首席执行长彼得‧温尼克(Peter Wennink)近日对外表示,截至目前仍未获得向中国芯片制造商出口最新光刻机的许可。

ASML:仍未获得向中国出口最新光刻机许可-芯智讯

1月21日消息,据路透社报道,荷兰光刻机巨头ASML 首席执行长彼得‧温尼克(Peter Wennink)近日对外表示,截至目前仍未获得向中国芯片制造商出口最新光刻机的许可。

ASML是曝光系统的主要制造商,曝光系统主要用于制造晶片。之前报导,美国政府压力下,荷兰政府拒绝授予ASML出口这些机器的许可,理由是这些机器是有军事用途的“两用”商品。

此前在2020年第三季财报发布后,ASML执行副总裁及CFO罗杰‧达森(Roger Dassen)接受采访时指出,如果ASML从荷兰向中国客户销售DUV(深紫外线)曝光系统,不需要出口许可证;但如果向中国客户直接出口涉及美国方面的零组件及系统,照美国要求,就必须获得出口许可。这意味着,比DUV更先进的EUV(极紫外光)曝光机的确不能直接卖给中国。

ASML计划今年将生产能力提高到55台EUV设备,到2023年达到每年超过60台;2020年生产35台EUV光刻机。2021财年第二季财报显示,ASML前三大设备出货地分别是南韩39%、台湾36%、中国17%,当季共出货72套曝光系统(含9台EUV)。

彼得‧温尼克认为,中国目前不太可能独立掌握顶级曝光技术,因ASML仰赖“不懈的创新”,并整合只有非中国供应商才能获得的组件;但中国并非永远无法掌握顶级曝光技术,“因为我们知道的物理定律,中国人也知道,他们一定会努力掌握这项技术;永远不要说得太绝对,他们肯定在尝试。”

来源:路透社