为防止ASML出走，荷兰政府斥资25亿欧元改善埃因霍温基础设施！
3月29日消息，据路透社报道，荷兰政府今天表示，将耗资25亿欧元以改善埃因霍温地区（Eindhoven）的交通和其他基础设施，以确保总部设在该地的全球光刻机龙头大厂ASML不会将业务外迁。
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ASML受限光刻机在华维护问题“悬而未决”！
据外媒报道，在美国联合日本、荷兰升级对于半导体设备的出口限制之后，美国正要求荷兰盟友对中国芯片制造设备的维护施加更多限制。
商务部长王文涛会见荷兰外贸大臣，就光刻机输华等议题深入交换意见
据商务部网站消息，3月27日，商务部部长王文涛在京会见来访的荷兰外贸与发展合作大臣范吕文。双方重点就光刻机输华和加强半导体产业合作等议题深入交换意见。商务部副部长兼国际贸易谈判副代表凌激参加会见。
今年1-2月中国从荷兰进口了32台光刻机
2023年6月，荷兰宣布了出口管制禁令，根据相关出口法规，自2024年1月1日起，中国大陆的企业将很难获得出口许可证。因此，从2023年下半年起，我国从荷兰进口光刻机金额呈现爆发式增长。那么进入2024年，我国从荷兰进口光刻机情况如何？
ASML计划将公司搬走，荷兰政府急了
据路透社等外媒报道，全球光刻机巨头——荷兰ASML正计划将公司搬离荷兰。
为降低DRAM制造成本，传美光将率先采用佳能纳米压印设备
据外媒报道称，美光近日在一场演讲当中介绍了如何将纳米压印技术用于DRAM生产的细节，这似乎也预示着美光将会率先采用佳能的NIL设备用于DRAM芯片的生产，以便进一步降低DRAM的制造成本。
光刻机子系统之——对准标记及对准系统
光刻机的对准系统（Alignment System）负责把掩膜上的图形和晶圆上已经有的图形对准，以保证曝光后图形之间的准确套刻。其主要过程包括掩膜的预对准和定位、晶圆的预对准、掩膜工件台与晶圆工作台之间的对准、掩膜与晶圆的对准四个步骤。
担心被用于军事目的，荷兰撤回部分ASML对华出口许可
2月20日消息，据路透社报道，荷兰贸易部长范李文（Geoffrey van Leeuwen）近日在接受采访时表示，由于担心半导体设备龙头ASML的光刻机被用于军事目的，因此近期已决定撤回ASML对中国出口部分产品的许可证。
单台3.5亿欧元！ASML首次公开展示High NA EUV光刻机：拐点将在2026年左右到来！
近日，全球光刻机大厂ASML展示了最新一代的High NA EUV光刻机，除了已经率先获得全球首台High NA EUV光刻机的英特尔之外，台积电和三星订购High NA EUV预计最快2026年陆续到位，届时High NA EUV将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备“武器”。
ASML：NXT:1970i和NXT:1980i对个别大陆厂商供应也将受限！
北京时间2024年1月24日下午，光刻机大厂ASML今日发布了2023年第四季度及全年财报，整体业绩表现高于市场预期。同时，ASML还缺认，个别中国大陆晶圆厂低端DUV光刻机的供应也将受限。
2023年12月中国从荷兰进口光刻机金额同比暴涨1000%！
1月22日消息，据彭博社援引中国海关数据汇总显示，2023年，中国大陆用于芯片制造的半导体设备的进口总额达到了接近400亿美元，同比增长了14%，这也是自2015年有记录以来的第二大进口额，反应了中国积极发展半导体制造业的努力。
