传英特尔已采购了6套High-NA EUV光刻机

12月19日消息，据外媒sammobile的报道，韩国三星日前与荷兰半导体设备商ASML签署了价值1万亿韩元（约7.55亿美元）的协议，两家公司将在韩国投资建造半导体芯片研究工厂，并将在该研究工厂开发新一代EUV半导体制造技术。三星电子副董事长兼设备解决方案部门负责人Kyung Kye-hyun强调，两家公司的最新协议将帮助其获得下一代High-NA EUV光刻机。

Kyung表示，三星已经获得High-NA EUV半导体曝光技术的优先权。而且，这次的协议也为三星创造了一个机会，可以长期优化High-NA光刻技术在DRAM和逻辑芯片在生产中的使用。

报道强调，三星与ASML的协议，是在韩国京畿道即将建成的芯片研究工厂中，两家公司的工程师将共同努力改进EUV制程技术的半导体生产。显然，三星与ASML的合作重点不只是将2nm芯片的制造设备引进韩国，而是它们可以更好的利用下一代光刻设备。

根据规划，英特尔将在2024年上半年量产Intel 20A制程，下半年将量产更先进的Intel 18A制程。台积电、三星都将在2025年量产2nm制程。而2nm制程量产的关键正是ASML最新的High-NA EUV光刻机。

最新的消息显示，ASML即将在2023年年底前发布首台商用High-NA EUV光刻机，其数值孔径NA将从0.33提高到0.55，这将使芯片制造商能够使用超精细图案化技术来制造2nm及以下更先进制程的芯片。ASML计划在2024年生产10台High-NA EUV，据说英特尔已采购了其中6台。未来几年，ASML计划将High-NA EUV光刻机的产能提高到每年20套。

编辑：芯智讯-浪客剑