传荷兰最快6月30日出台对华出口限制新规！浸没式光刻机都将受影响？

6月23日消息，据彭博社援引知情人士的话透露，荷兰政府最快将在下周公布新的出口管制措施，预计将限制ASML的部分型号的光刻机对华出口。

报道称，荷兰政府此前承诺在夏季前公布的这些措施没有提及中国或ASML，但旨在限制了ASML三种型号的设备运往亚洲国家。知情人士表示，荷兰议员们制定了出口管制条例，并计划最快在6月30日或7月的第一周公布。后续荷兰政府出台的出口管制条例可能也将作为其他欧盟成员国可以参照的标准。

在去年10月美国出台了对华半导体出口限制新规之后，美国就在持续推动荷兰和日本这两大半导体设备强国也跟进其对华半导体出口限制新规，以期全面限制中国半导体产业的发展。随后在今年年初，荷兰和日本在美国的施压之下，同意了美国的要求。

早在今年3月8日，荷兰光刻机大厂ASML就通过官网发布了《关于额外出口管制的声明》称，荷兰政府于当天发布了有关即将对半导体设备出口进行限制的更多信息。这些新的出口管制侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和部分浸没式光刻设备。对于ASML来说，受影响的就是其部分浸没式光刻设备。

所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。目前全球仅有ASML和尼康两家公司生产。由于美国的主要目标是限制中国的先进制程芯片制造能力，因此，之前业界普遍预期荷兰政府的即将出台的新的限制将会主要针对中高端型号的浸没式光刻机，主要用于成熟制程的浸没式光刻机将不会受到限制。

ASML当时也强调，荷兰政府新出台的额外的出口限制政策并不涉及所有浸没式光刻设备，而只涉及所谓的“最先进”设备。尽管当时荷兰政府相关限制政策并未正式出台，但ASML认为其TWINSCAN NXT：2000i及之后的浸没式光刻系统的出口将会受到限制，但是主要关注成熟节点的客户可以继续使用不太先进的浸没式光刻工具。

众所周知，ASML最先进的EUV光刻机一直是限制对华出口的。而目前ASML在售的浸没式光刻机主要有三大型号，包括TWINSCAN NXT:2050系列、TWINSCAN NXT:2000系列和TWINSCAN NXT:1980系列。根据ASML的解读，其TWINSCAN NXT:2000系列及之后的浸没式光刻系统将会受到出口限制。这也意味着，TWINSCAN NXT:1980系列仍将可以出口。

据ASML相关人士向芯智讯透露，目前NXT:1980系列已经升级到了NXT:1980 F，NXT:1980D是两代之前的产品了。之前的NXT:1980 D/E都是基于NXT3平台，F是新的NXT4平台，每小时的生产晶圆数量从275wph上升到了295wph，而且NXT4平台还能支持后续升级到330-350wph。

不过，从彭博社最新的报道来看，提及“限制了ASML三种型号的设备”，如果这里所指的“三种型号的设备”指的都是浸没式光刻机的话，那么是否意味着NXT:1980系列可能也将受限？

除了ASML之外，荷兰的另一大半导体设备制造商ASM International（以下简称“ASMI”）的部分薄膜沉积设备可能也将受限。虽然，全球薄膜沉积设备市场，主要被美国应用材料和泛林集团、日本东京电子所占据。但是，荷兰ASMI在薄膜沉积设备市场也具有一定的市场份额。比如在ALD 设备领域，东京电子和 ASM国际分别在 DRAM 电容和 HKMG 工艺率先实现产业化应用。有数据显示，2020 年东京电子和ASM国际两家厂商合计占据了约 60%的市场。

值得注意的是，不久前的5月23日，日本经济产业省正式公布了《外汇法》法令修正案，将先进芯片制造所需的23个品类的半导体设备列入出口管理的管制对象，上述修正案自今年3月31日正式披露，并接受了为期一个多月的征求意见之后终于在5月23日定稿，并将正式于7月23日实施。被新增列入出口管制设备品类包括：3项清洗设备、11项薄膜沉积设备、1项热处理设备、4项光刻设备、3项蚀刻设备、1项测试设备。（具体可查阅芯智讯此前文章《日本半导体出口管制政策出台：这些设备、材料及技术都将受限！（附清单）》）

不论是日本已经出台的《外汇法》法令修正案，还是传闻荷兰即将出台的新的出口管制措施，似乎都刻意避免了提及中国，同时也避免提及具体的受限制的厂商名称及其产品的型号，而是通过限制相应类型设备的具体参数来进行限制。

编辑：芯智讯-浪客剑