中微公司宣布推出12英寸低压化学气相沉积设备

近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex™ CW。这是中微公司深耕高端微观加工设备多年、在半导体薄膜沉积领域取得的新突破，也是实现公司业务多元化增长的新动能。

中微公司12英寸低压化学气相沉积产品Preforma Uniflex™ CW

作为中微公司自主研发的产出效率高且性能卓越的12英寸LPCVD设备，Preforma Uniflex™ CW可灵活配置多达五个双反应台反应腔（十个反应台），每个反应腔可以同时加工两片晶圆，在保证较低的生产成本和化学品消耗的同时，实现更高的生产效率。Preforma Uniflex™ CW, 作为中微公司自主研发的LPCVD设备，配备了完全拥有自主知识产权的优化混气方案及加热台, 具有优秀的薄膜均一性、填充能力和工艺调节灵活性，对于弯曲度较大的晶圆，它也具备良好的工艺处理能力。并且其优异的阶梯覆盖率和填充能力，可以满足先进逻辑器件、DRAM和3D NAND中接触孔以及金属钨线的填充应用需求。

中微公司表示，Preforma Uniflex™ CW的推出是公司创新之路的又一里程碑。一直以来，中微公司践行“四个十大”的企业文化，将产品开发的十大原则始终贯穿于产品开发、设计和制造的全过程，研发团队秉持为达到设备高性能和客户严格要求而开发的理念，坚持技术创新、设备差异化和知识产权保护。“这款LPCVD设备不仅拥有完整、自主的知识产权，还创造了中微公司新设备研发速度的新纪录。”

中微公司集团副总裁、LPCVD 产品部和公共平台工程部总经理陶珩说:”自该款LPCVD设备研发立项以来，仅用不到半年时间，我们就完成了产品设计、生产样机开发和实验室评价，目前已顺利导入客户端进行生产线核准。”

编辑：芯智讯-林子