ASML：仍未获得向中国出口最新光刻机许可

1月21日消息，据路透社报道，荷兰光刻机巨头ASML 首席执行长彼得‧温尼克（Peter Wennink）近日对外表示，截至目前仍未获得向中国芯片制造商出口最新光刻机的许可。

ASML是曝光系统的主要制造商，曝光系统主要用于制造晶片。之前报导，美国政府压力下，荷兰政府拒绝授予ASML出口这些机器的许可，理由是这些机器是有军事用途的“两用”商品。

此前在2020年第三季财报发布后，ASML执行副总裁及CFO罗杰‧达森（Roger Dassen）接受采访时指出，如果ASML从荷兰向中国客户销售DUV（深紫外线）曝光系统，不需要出口许可证；但如果向中国客户直接出口涉及美国方面的零组件及系统，照美国要求，就必须获得出口许可。这意味着，比DUV更先进的EUV（极紫外光）曝光机的确不能直接卖给中国。

ASML计划今年将生产能力提高到55台EUV设备，到2023年达到每年超过60台；2020年生产35台EUV光刻机。2021财年第二季财报显示，ASML前三大设备出货地分别是南韩39%、台湾36%、中国17%，当季共出货72套曝光系统（含9台EUV）。

彼得‧温尼克认为，中国目前不太可能独立掌握顶级曝光技术，因ASML仰赖“不懈的创新”，并整合只有非中国供应商才能获得的组件；但中国并非永远无法掌握顶级曝光技术，“因为我们知道的物理定律，中国人也知道，他们一定会努力掌握这项技术；永远不要说得太绝对，他们肯定在尝试。”

来源：路透社