三星宣布基于EUV技术的7nm制程完成验证

在晶圆代工市场中，台积电与三星的竞争始终是大家所关心的戏码。其中，三星虽然有高通这样的 VIP 客户，但在 7 纳米制程节点上，高通预计会转投回台积电的情况下，三星要想受到更多的客户的青睐，只能从工艺技术上着手了。这也是三星为什么跳过非 EUV 技术的 7 纳米制程，直接上 7 纳米 LPP EUV 制程技术的原因。如今，三星终于公布了他的 7 纳米 LPP 制程已经完成了新思科技（Synopsys）的物理认证，意味着 7 纳米 EUV 制程将可以进行全球量产了。

事实上，目前在全球的前几大晶圆代工厂商中，英特尔的 10 纳米制程还没搞定，因此距离 7 纳米制程就更遥远了。而台积电的 7 纳米制程量产比较顺利，会有苹果、海思、高通、NVIDIA、AMD 等客户陆续流片、量产。不过。台积电的第一代 7 纳米制程，使用的还是传统的多重曝光技术，一直必须到 2019 年得第 2 代 7 纳米制程才会使用 EUV 光刻技术。

格罗方德方面也走台积电相似的路线，预计 2018 年量产的 7 纳米 DUV 制程还是传统的深紫外光刻技术。对此，号称频率可达 5GHz 的 AMD 7 纳米 Zen 2处理器就会使用格罗方德的 7 纳米制程技术，2019 年初问世，2020年 的再下一代才是 7 纳米 EUV 制程技术。

相对于其他竞争对手，三星在 EUV 技术上是最积极的。也就是三星直接跳过了第一代非 EUV 光刻的 7 纳米制程，直接使用加入 EUV 技术的 7 纳米 LPP 制程，并且预定在 2018 年下半年正式量产。日前，新斯科技与三星已经联合宣布，三星使用的 7 纳米 LPP 制程技术完成了 IC 验证器的认证工作了。

在三星完成这次的认证之后，三星的 7 纳米 LPP 制程就可以立即提供认证的技术资料，包括 DRC 设计规则检查、LVS 布局与原理图、金属填充技术档等等给予相关客户，而这也意味着三星的 7 纳米 LPP 制程正式进入可以量产的阶段。

目前在 EUV 光刻技术竞争激烈下，各家大厂抢 EUV 光刻机也成为重要经营项目之一。根据之前的消息，ASML 的 EUV 光刻机中，台积电订购了大约 10 台，三星订购了大约 6 台，英特尔订购了 3 台，而格罗方德的EUV订单数量不详，中芯国际也订购了 1 台 EUV 光刻机，将用于 7 纳米制程技术研究上，预计 2019 年初交货。而就在各家厂商手中都握有 EUV 光刻机的情况下，似乎未来在7纳米节点上要胜出，就必须对比大家的最后的技术与管理能力了。

来源：tecnews