首芯半导体多款设备迈入规模化应用新阶段

2025年12月30日，国产半导体设备厂商首芯半导体通过官方微信公众号宣布，其12英寸Dubhe系列和Merak系列两款机型同步发货国内先进逻辑工艺客户和大硅片头部客户，标志着公司在薄膜沉积设备领域的技术成熟度、工程能力及交付能力正在获得越来越多产业客户的认可。

据介绍，首芯交付国内先进逻辑工艺客户的产品是自主研发的Dubhe系列12寸PECVD设备，该设备将全面助力客户突破多种先进核心工艺膜层，同时为客户提供更为高效解决方案，实现有价值性的国产替代。

与此同时，交付国内大硅片头部客户的设备为自主研发的首台Merak系列12寸低温氧化物PECVD设备，通过客制化的研发和设计，该设备具备业界领先的金属离子控制能力，也有幸成为国内大硅片领域首台成功替代进口设备且导入量产线的国产PECVD设备，具有重大的国产替代意义。

随着半导体制造工艺的不断演进，从大硅片到器件结构日趋复杂，相关工艺对设备的要求也随着增加，更高精度、更强一致性、更严苛的长期稳定性成为产业客户追求的目标。

首芯半导体聚焦半导体制造领域三大设备之一的薄膜沉积设备，从成立之初，公司围绕核心技术持续投入研发与工程化能力建设，通过不断迭代产品平台、优化系统设计，公司产品正逐步满足更高标准的需求，为客户提供可靠、可持续的设备解决方案。

编辑：芯智讯-林子