
1月23日消息,根据韩国“经济日报”的报道,韩国计划针对商业技术窃取和外泄实施更严厉的罚则。因为随着商业技术窃取案件的增加,已经对韩国大型企业集团造成了打击。因此,韩国相关司法单位提议,预计将国家级尖端技术的窃取与外泄的惩罚提高三倍,最高可以达到18年有期徒刑。
报道指出,韩国最高法院量刑委员会日前表示,预计将技术窃取与与外泄列为不同的刑度类别,这将使得技术窃取和外泄技术的行为将被分开处理,使法官能够对涉嫌人给予更严厉的处罚。而这也响应了此前外界对于技术窃取和外泄相关处罚过于宽松,未能防止再次发生的情况的担忧。
目前韩国针对侵犯商业机密的行为,最高可判处6年以期徒刑。若根据最新修改后的罚则,一旦证实嫌疑人侵犯商业机密后向国外泄露国家关键技术,将会面临最高18年的有期徒刑。另外,向国外泄露国家级核心技术以外的工业技术,其最高刑责也将从目前的9年,提高到15年。至于,在韩国境内从事技术间谍活动的最高刑期,则将从现在的6年提高到9年。韩国最高法院量刑委员会也建议法官,不要因为肇事者是「初犯」就对其宽大处理。
根据韩国经济日报之前在2023年11月的分析报道指出,从2019年3月到2023年10月,韩国共侦破,或接受检察官调查,最后进行审判的技术产权盗窃案件达到1310起。然而,所有被告均没有被判处6个月以上的有期徒刑刑责。而根据韩国国家情报局(NIS)的数据显示,自2018年以来,已发生30多起半导体相关技术外泄案件,这比5年前的7起提升了超过四倍。
而在过去5年间发现的所有104起技术外泄案件中,有60起案件与国家战略技术有关,包括半导体、显示器和电池。整体来说,所有的技术外泄案件造成了韩国企业多达达25万亿韩元(约190亿美元)的损失。因此,面对韩国工商业界的呼吁,韩国决定对技术窃取与外泄案件提高刑责,以抑制相关事件的再次发生。
编辑:芯智讯-林子
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