Rapidus董事长:日本尖端制程技术将追上台积电与英特尔,缩小20多年技术差距

Rapidus董事长:日本尖端制程技术将追上台积电与英特尔,缩小20多年技术差距

12月14日消息,据日本媒体报道,在近日召开的SEMICON Japan 2023活动上,由日本政府支持的新创晶圆代工厂Rapidus董事长东哲郎表示,他相信日本能够在尖端晶圆制造技术竞赛上,迎头赶上台积电与英特尔等领先者,缩短多达20年的落后差距。

东哲郎表示,Rapidus北海道建厂计划一定会成功,并且大约在2027~2028年期间,相关制程技术将发生改变。因为,新兴的晶体管构架GAA(全环绕栅极)将取代目前主流的FinFET构架,推动半导体制造的进步,可以生产2nm及以下先进制程的芯片。

东哲郎强调,半导体市场正朝着具有特定功能的产品,而不是以通用型芯片的方向来发展,Rapidus希望能够在这个过渡期抢进市场当中,并能够得到日本半导体设备和半导体材料相关公司的全力支持。东哲郎指出,日本必须不惜一切代价创造一个能够诞生尖端技术的平台,这将成为日本年轻一代的新希望之光。

资料显示,Rapidus于2022年8月成立,由丰田、Sony、NTT、NEC、软银(Softbank)、电装(Denso)、NAND Flash大厂铠侠(Kioxia)、三菱UFJ等8家日企共同出资设立,出资额各为73亿日圆,且日本政府也将提供700亿日圆补助金、作为其研发预算。目标是在5年后的2027年开始量产2nm先进制程芯片。Rapidus计划国产化的对象为使用于自动驾驶、人工智能(AI)等用途的先进逻辑芯片。

今年2月底,Rapidus宣布将在日本北部岛屿北海道的千岁市建造一座2nm晶圆代工厂。Rapidus将基于IBM的2nm制程技术,研发“Rapidus版”制造技术,计划2027年量产。而“Rapidus版”制造技术将会聚焦“高性能计算(HPC)”和“超低功耗(Ultra Low Power)”两大方向。市场消息表示,Rapidus北海道2nm产线将分为三个或四个阶段,称为创新整合制造 (IIM)。IIM-1 阶段将制造 2nm芯片,IIM-2 处理比2nm更先进制程。

今年9月初,Rapidus的2nm晶圆厂已经正式动工建设,目标是在 2025 年之前建立第一条原型产线,随后在2027年量产2nm芯片。届时,日本有望成为继美国、中国台湾、韩国、爱尔兰之后,成为全球第5个拥有导入EUV的芯片量产产线的地区。

目前日本政府正在向Rapidus提供数千亿日元的资金援助,以使其在日本北海道千岁市建设先进制程晶圆厂能够完成。同时Rapidus也与IBM、ASML等开展深度合作,Rapidus也已经派遣100名工程师到IBM学习2nm芯片制造及GAA晶体管技术。

编辑:芯智讯-林子

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