美光日本EUV晶圆厂将获12.9亿美元补贴

9月30日消息，据《日经新闻》报道，日本经济产业省正在将对美光广岛工厂的补贴从 3.2 亿美元增加到 12.9 亿美元，以加强日本国内半导体供应链。对于日本政府来说，这笔款项是更大计划的一部分，该计划包括向各种芯片公司投资数十亿日元，旨在增强日本的半导体实力。​

今年5月，美光曾宣布，在日本政府的支持下，将投资5,000亿日元（37亿美元），包括在广岛设立DRAM芯片工厂，并将安装ASML最新的极紫外光（EUV）设备，以1-gamma节点生产DRAM芯片，成为第一家把EUV技术带到日本的公司。

美光在声明指出：这项投资将“促成下一波端对端技术创新，例如迅速崛起的生成式人工智能（AI）应用”。

研究机构Omdia分析师南川明指出，美光广岛工厂前身是尔必达的工厂，拥有一些美光工程师，将在G7强化半导体供应链的野心中，扮演关键角色。

美光计划到 2026 年开始使用依赖于极紫外（EUV）光刻的 1γ 工艺（第三代 10 纳米级节点）在日本大批量生产复杂的存储芯片，因此该公司需要尽快获得资金。

日本经济产业省为期两年的 2 万亿日元（133.85 亿美元）的庞大预算明确用于与半导体投资相关的补贴。

其中，台积电熊本工厂获得高达 4760 亿日元（31.857 亿美元）的资金，铠侠与西数的合作得到了价值 929 亿日元（约6.2197亿美元）的补贴支持。此次对美光广岛工厂的补贴从 3.2 亿美元增加到 12.9 亿美元。

报道称，此次对半导体公司的巨额资金注入凸显了日本致力于减少对海外芯片供应商的依赖并重建国内半导体行业的承诺。日本旨在通过加强国内能力来规避与国际供应链中断相关的潜在风险，从而确保关键技术部件的平稳和强劲的内部供应。

​编辑：芯智讯-林子