日本凸版印刷分拆半导体光掩膜业务，与INTEGRAL成立合资公司Toppan Photomask

近日，全球最大的独立第三方光掩膜生产商日本凸版印刷株式会社宣布分拆旗下半导体光掩膜业务，并与投资基金 INTEGRAL合资成立一家新公司“Toppan Photomask ”。Toppan Photomask作为凸版印刷的并表子公司，将在母公司的协助下继续拓展半导体用光罩的生产活动。同时，Toppan Photomask也将在INTEGRAL公司的帮助下，加强经营管理和公司治理体制，以期今后实现上市。

光掩膜是光刻工艺中转移电路图形的母版，起到光刻机与大硅片的桥梁和纽带作用。从应用领域划分，光掩膜在半导体、显示面板、触摸屏、电路板等生产均有使用，其中半导体应用占比达到60%。

随着AI、5G等技术的不断发展，各种市场的数字创新正在加速，全球半导体市场也在持续快速扩张，2021年全球半导体市场规模达到5560亿美元。在全球半导体短缺的背景下，各半导体制造商正在积极提升其生产能力，而光掩膜作为半导体生产中不可或缺的电路母版，全球各地对其需求也空前高涨。

凸版印刷表示，由于半导体市场的快速成长，光掩膜市场已经迎来转折点，为了不断扩大和提升业务，在洞悉市场环境的变化和客户趋势等情况的同时，更需要在研发和设备等方面拓展比以往更加快速灵活的资金投入。在这样的大环境下，凸版印刷通过公司分拆将半导体光掩膜业务剥离出来，成为独立企业个体，可在提高经营管理自由度的同时，快速灵活地拓展符合市场需求的投资活动。

根据半导体专家莫大康的介绍，作为半导体制造过程中转移电路图形底片的高精密工具，光掩膜是半导体制程中非常关键的一环。随着摩尔定律的演进，半导体工艺已经推进到5纳米节点。由于应用在DUV光刻机中的光掩膜很难应用到EUV光刻机当中。EUV光掩膜的开发生产仍将是EUV光刻产业中的关键环节。在EUV光刻越来越多地应用于先进工艺的情况下，EUV光掩膜市场将呈现持续增长的态势。

从产业链上来看，光掩膜行业的集中度较高。光掩膜生产应商可以分为晶圆厂自行配套的工厂和独立第三方光掩膜生产商两大类。凸版印刷自1961年开始光掩膜业务，是当前全球最大的独立第三方光掩膜生产商，大约占有全球32%的第三方市场份额。其在日本、欧美和亚洲（除日本外）等地均设有生产基地。

来源：中国电子报