上海新阳成功购得ASML-1400光刻机：研发193nm光刻胶

3月8日，上海新阳半导体材料股份有限公司发布公告，披露了关于购买ASML-1400光刻机的最新进展。

据介绍，上海新阳自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备，并于2020年12月14日披露，该光刻机将于2020年底前运抵国内。

不过此后，由于上海新阳与光刻机供应商、北方集成电路技术创新中心(毕竟)有限公司在沟通协调设备运输与安装等细节方面遇到波折，光刻机设备没能在规定时间内运达。

随后，双方就具体合作细节签署了《合作框架协议》，预计该光刻机将于2021年3月底前进入北方集成电路现场。

现经各方积极协商、运作，这台光刻机设备于今日已进入北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司的场地，后续将进行安装调试等相关工作。

上海新阳表示，采购的ASML干法光刻机设备顺利交付，对加快193nm ArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，加快落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。

不过，这台光刻机尚须经过装机、调试等相关环节，如果出现工作疏漏或失误，则存在造成光刻机投入使用过程较长，甚至无法投入使用的风险。

另外，光刻胶研发项目技术壁垒高、周期长，投入产业化并最终实现销售利润，仍需一定时间，而且价格昂贵，其折旧及后续维护费用预计对公司的经营业绩存在一定影响。