标签： EUV
美光已在广岛工厂利用EUV试产1γ DRAM，计划2025年大规模量产
美国当地时间6月26日，存储芯片大厂美光科技在公布2024财年第三财季财报的同时，也披露了美光正在其位于日本广岛的工厂试产基于极紫外（EUV）光刻技术的 1γ （1-gamma）DRAM ，作为试生产计划的一部分，首批 1γ DRAM也将在那里制造。
ASML NXE:3800E导入全新工件台运动系统，效率提升22%
3月28日消息，据荷兰媒体Bits & Chips报导，光刻机大厂ASML确认，其新推出的第三代的标准型（0.33 NA）EUV光刻机NXE:3800E导入部分High-NA EUV技术，工作效率提升。
ASML：NXT:1970i和NXT:1980i对个别大陆厂商供应也将受限！
北京时间2024年1月24日下午，光刻机大厂ASML今日发布了2023年第四季度及全年财报，整体业绩表现高于市场预期。同时，ASML还缺认，个别中国大陆晶圆厂低端DUV光刻机的供应也将受限。
继台积电之后，三星将斥资100亿美元在美国建EUV工厂！
11月20日消息，据韩国媒体爆料称，三星已确定在美国德州奥斯汀新建采用极紫外光(EUV)技术的半导体工厂，项目总投资规模约100亿美元。此举或将是为应对台积电在美国建5nm工厂的挑战。
韩国半导体产业迎来强援，美国化工巨头杜邦宣布将在韩生产EUV光刻胶
据国外媒体报道称，美国化工巨头杜邦近日宣布，将在韩国生产尖端半导体制造所需的光刻胶（感光材料）。
中芯国际EUV光刻机订单遭ASML取消？路透社证实美国与荷兰政府合谋阻挠！
据路透社报道，去年11月《日经新闻亚洲评论》曾援引消息人士的话称，荷兰半导体制造设备供应商阿斯麦尔（ASML）公司已经中止和中芯国际的7nm及以下的先进工艺EUV光刻机合作计划，并表示此举是受到了美国政府干预。
台积电5nm测试芯片良率已达80％：明年上半年大规模量产
在近日的IEEE IEDM大会上，台积电官方披露了5nm工艺的最新进展，给出了大量确凿数据，看起来十分的欢欣鼓舞。
台积电6纳米制程将于明年一季度进入试产
10月8日消息，台湾地区半导体制造商台积电日前透露，该公司6纳米制程技术将于明年第一季度进入试产，明年年底前量产。
台积电宣布启动2nm工艺研发，预计2024年投产
今年4月初，晶圆代龙头大厂台积电宣布，其5nm制程已正式进入试产阶段，并已在开放创新平台下推出完整的5nm设计架构。现在，台积电官方又宣布，正式启动2nm工艺的研发，工厂设置在位于台湾新竹的南方科技园，预计2024年投入生产。
三星7nm EUV拿下大订单：将代工IBM Power11处理器
今天，IBM宣布，将选用三星7nm EUV代工其Power11处理器，后者将用于蓝色巨人的Power系统、IBM Z、LinuxOne、高性能计算以及云服务解决方案中。
解禁了？中芯国际斥资1.2亿美元购入一台EUV光刻机
5月16日，据日本新闻网站Nikkei Asian Review引述消息报道称，全球最大的光刻机制造商荷兰的阿斯麦（AMSL）证实，中国最大的晶圆代工场已向荷兰订购了一台最新型的使用EUV（极紫外线）技术的光刻机。这台机器价值1.2亿美元，与其去年净利润1.264亿美元大致相当。消息来源称，这一设备预计将于2019年年初交付。
