从追随者跻身开创者，家登携8家台厂赴美建“半导体在地供应链联盟”
11月27日消息，据台媒《财讯》报导，随着半导体设备大厂ASML的极紫外光（EUV）光刻机的持续升级，其所搭配的第2代极紫外光光罩传送盒（EUV Pod）也在升级。同样，晶圆制造商制造更先进制程所需的EUV光罩层数也开始从过去的10~14层增长至20层以上，而每增加1层就需要对应增加240~260个EUV Pod。
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ASML已完成第100台EUV光刻机出货，2021年产能可达45～50台
根据最新的数据显示，光刻机大厂ASML的极紫外光（EUV）光刻机在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货，预估2021年其EUV曝光机产能可达45～50台规模，这也意味着EUV光刻机出货进入高速成长阶段。
