标签: EUV光刻机

ITF Japan 2020

ASML携手imec完成了可用于1nm芯片制造的EUV光刻机的设计

imec首席执行官兼总裁Luc Van den hove做了主题演讲,概述了该公司的研究,该公司和ASML密切合作,共同开发了下一代高分辨率EUV光刻技术,即High NA EUV。他强调说,通过将光刻技术投入实际使用,摩尔定律将不会终止,并且该工艺将继续改进到1 nm或更小。
传英国将在6个月内移除华为5G设备!英国官员这样回应-芯智讯

华为强势挖角设备厂,5nm光刻机两年内投入量产?

一位半导体设备厂商内部人士向芯智讯爆料称,“华为近期搞到了上海的几家半导体设备厂商的员工通讯录,挨个打了电话。我们公司,除了总经理,基本上都接到了华为的电话。我有同事就被挖走了,而且是直接放下了手中的重要项目,直接走了。”

不用EUV也能实现5nm?中科院研发新型激光光刻技术

近日,据中国微米纳米技术学会报道,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员,与国家纳米科学中心刘前研究员合作,在《纳米快报》(Nano Letters)上发表了题为《超分辨率激光光刻技术制备 5nm 间隙电极和阵列》(5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography)的研究论文,论文讲述了该团队开发的新型 5 nm 超高精度激光光刻加工方法。