标签： 浸没式光刻机

2023年9月1日，荷兰政府此前于6月底颁布的有关先进半导体设备的额外出口管制的新条例正式生效。这些新的出口管制条例主要针对的对象为先进的芯片制造技术，包括先进的沉积设备和浸润式光刻系统。

2000年代初，芯片行业一直致力于从193纳米氟化氩（ArF）光源光刻技术过渡到157纳米氟（F 2 ）光源光刻技术。就像艺术家希望用细线笔代替记号笔来绘制更精确、更详细的图片一样，这种向更小波长的重大转变是业界希望继续缩小晶体管并在芯片上实现更多计算能力和存储功能的希望。然而，意想不到的事态发展证明了将工程推向极限的风险，但物理定律并不同意。

6月23日消息，据彭博社援引知情人士的话透露，荷兰政府最快将在下周公布新的出口管制措施，预计将限制ASML的部分型号的光刻机对华出口。

3月11日消息，根据荷兰布拉邦省投资发展局（Brabant Development Agency）公告声明，荷兰半导体设备制造商ASML的数十家供应商高层，下周将走访越南、马来西亚和新加坡等地，评估在东南亚设厂的可能性，藉此分散地缘政治风险，特别是会关注中国大陆以外的亚洲工厂。