标签： 太空晶圆厂

去年11月，国际空间站的宇航员利用来自Astrileux的有效载荷，在国际空间站的外部平台上进行了光刻实验。实验围绕Astrileux的新EUV光学镀膜技术进行，目的是确定是否有可能使用Astrileux的EUV涂层捕获太阳EUV辐射。这些材料构成了波长为13.5nm的EUV光刻工具的光学器件和反射镜的基础。