Imec携手三井化学，推动EUV碳纳米管光罩保护膜商用
12月23日消息，据日本媒体报道，比利时微电子研究中心（imec）携手日本化工及极紫外光（EUV）光罩保护膜大厂三井化学共同宣布，为了推动针对EUV光刻的碳纳米管（CNT）光罩保护膜技术商业化，双方正式建立策略伙伴关系。
标签： 光罩保护膜
三星自研EUV光罩保护膜透光率已达90%
12月4日消息，据韩国媒体Business Korea报导，三星电子DS部门研究员Kang Young-seok表示，三星使用的EUV光罩保护膜（EUV pellicles）透光率（transmission rate）已达90%，计划将进一步提高至94-96%。
传三星自研EUV光罩保护膜已量产
2月15日消息，据韩国媒体BusinessKorea报导，三星正在开发极紫外光(EUV) 光罩保护膜 (Pellicle) ，希望借此提高EUV系统生产芯片的良率以缩小与竞争对手台积电的市占率差距。
韩国企业开发出基于石墨烯材料的EUV光罩保护膜
12月15日消息，据韩国媒体BusinessKorea报导，韩国本土的半导体和显示材料开发商——石墨烯实验室 (Graphene Lab) 开发出了基于石墨烯制造的EUV光罩保护膜 (Pellicle) ，有望显著提高ASML的极紫外光 (EUV) 系统生产芯片的良率。
