标签： 光刻机

蔡司：与ASML技术蓝图已规划至2040年！

蔡司高管：中国EUV技术落后西方15年，但不能小看

9月3日消息，德国光学大厂蔡司公司（Zeiss）半导体部门负责人 Frank Rohmund 接受彭博电视访问时指出，中国在最尖端芯片制造设备研发方面，大约落后西方 15 年。UBS 分析师团队本周也发表报告称，推断中国至少要 10 年后，才有可能自行开发出可取代 ASML 顶尖极紫外光（EUV） 技术的方案。
High NA EUV迈入高量产阶段，已有10台系统投入运行

High NA EUV迈入高量产阶段，已有10台系统投入运行

9月1日消息，在2026 年SEMICON Taiwan 先进制程科技论坛上，全球光刻机龙头ASML高级副总裁暨High NA EUV 产品管理主管Greet Storms 指出，High NA EUV（高数值孔径极紫外光）系统已加速迈入高量产（HVM）阶段。随着全球客户光刻需求攀升，ASML通过技术优化使设备生产力达到量产标准，并为未来十年的半导体制程奠定高性价比的制程微缩蓝图。

为应对客户旺盛需求，ASML今年将在中国台湾招募超1000人

8月11日消息，台积电新竹与高雄的2nm晶圆厂已成功量产，台积电还调高了2026年资本支出，并宣布在台规划兴建13座先进制程晶圆厂与先进封装厂，如此庞大的扩产行动正推动对于相关半导体设备的巨大需求。作为全球光刻机龙头的ASML为了应对台积电的需求，也正在积极扩大在台湾的布局，今年更是将在台湾招聘超过1000名新员工。
再获头部客户批量订单，芯上微装光刻机加速放量

再获头部客户批量订单，芯上微装光刻机加速放量

8月8日，国产光刻机厂商上海芯上微装科技股份有限公司（以下简称“芯上微装”或“AMIES”）通过官方微信公众号宣布，近日，该公司自主研发的350nm步进投影光刻机（AST6200）凭借卓越性能与稳定表现，快速顺利通过国内化合物半导体领域头部客户的工艺验证，并斩获批量重复订单。

美国修订MATCH法案：保留DUV对华限制，但放宽了这些！

4月17日消息，根据外媒路透社报导，美国众议院此前提出的《MATCH法案》的最新版本已缩减部分限制内容，但仍保留对荷兰光刻机大厂ASML的浸没式深紫外光（DUV）光刻机的对华出口限制，以及针对中芯国际、长江存储与长鑫存储等中国芯片厂设下供应门坎。