标签: ASML

成本难题可解?ASML:Hyper NA EUV光刻机有望2030年商用!

继不久前对外公开展示了面向2nm以下尖端制程制造的High NA EUV光刻机之后,近日,AMSL在其2023年度报告当中还披露了其未来更为先进的Hyper-NA EUV技术的进展,并预计Hyper-NA EUV光刻机可能将会在2030年之际开始商用,为未来更尖端的芯片生产技术提供助力。
关于High NA EUV光刻,你应该了解的5件事

关于High NA EUV光刻,你应该了解的5件事

经过十年的研发,ASML 于 2023 年 12 月正式向英特尔交付了首个High-NA(高数值孔径)EUV 光刻系统——TWINSCAN EXE:5000的首批模块, 代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。
ASML二季度来自中国大陆销售额占比升至24%,浸没式DUV销量环比增长56%-芯智讯

2023年12月中国从荷兰进口光刻机金额同比暴涨1000%!

1月22日消息,据彭博社援引中国海关数据汇总显示,2023年,中国大陆用于芯片制造的半导体设备的进口总额达到了接近400亿美元,同比增长了14%,这也是自2015年有记录以来的第二大进口额,反应了中国积极发展半导体制造业的努力。
图片

传英特尔已采购了6套High-NA EUV光刻机

12月19日消息,据外媒sammobile的报道,韩国三星日前与荷兰半导体设备商ASML签署了价值1万亿韩元(约7.55亿美元)的协议,两家公司将在韩国投资建造半导体芯片研究工厂,并将在该研究工厂开发新一代EUV半导体制造技术。三星电子副董事长兼设备解决方案部门负责人Kyung Kye-hyun强调,两家公司的最新协议将帮助其获得下一代High-NA EUV光刻机。

ASML将与三星共同投资54.5亿元在韩国建研发中心

12月13日消息,光刻机大厂ASML宣布,已与韩国三星电子签署备忘录,将共同投资1万亿韩元(约合人民币54.5元)在韩国建立研究中心,并将利用下一代极紫外(EUV)光刻机研究先进半导体制程技术。另外,ASML也宣布与SK海力士签署ESG备忘录,双方在包括环境、社会和公司治理项目展开合作。
斥资100亿美元!纽约州携手IBM/美光/应用材料/东京电子建High-NA EUV研发中心

斥资100亿美元!纽约州携手IBM/美光/应用材料/东京电子建High-NA EUV研发中心

12月13日消息,当地时间11日,美国纽约州长Kathy Hochul宣布,与包括IBM、美光、应用材料(Applied Materials)、东京电子(Tokyo Electron)等半导体大厂达成一项合作协议,预计将投资100亿美元在纽约州Albany NanoTech Complex(奥尔巴尼纳米技术综合体)兴建下一代High-NA EUV半导体研发中心,以支持世界上最复杂、最强大的半导体的研发。