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传三星自研EUV光罩保护膜已量产

2月15日消息,据韩国媒体BusinessKorea报导,三星正在开发极紫外光(EUV) 光罩保护膜 (Pellicle) ,希望借此提高EUV系统生产芯片的良率以缩小与竞争对手台积电的市占率差距。

ASML确认:美日荷已达成协议!

1月29日消息,昨日外媒报道称,美国拜登政府在当地时间本周五于华盛顿结束的谈判中,已经成功与荷兰和日本达成协议,将限制对华出口先进的芯片制造设备,其中就包括ASML Holding NV、Nikon Corp.和Tokyo Electron Ltd.等厂商的产品。
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韩国企业开发出基于石墨烯材料的EUV光罩保护膜

12月15日消息,据韩国媒体BusinessKorea报导,韩国本土的半导体和显示材料开发商——石墨烯实验室 (Graphene Lab) 开发出了基于石墨烯制造的EUV光罩保护膜 (Pellicle) ,有望显著提高ASML的极紫外光 (EUV) 系统生产芯片的良率。
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ASML CEO质疑美国要求荷兰跟进对华新规

12月14日消息,据路透社报道,荷兰半导体设备制造商 ASML 的首席执行官温宁克(Peter Wennink)于当地时间周二接受报纸 NRC Handelsblad 采访时,质疑了美国推动荷兰通过限制对华出口的新规定到底是否有意义。