标签: 光刻机

不用EUV也能实现5nm?中科院研发新型激光光刻技术

近日,据中国微米纳米技术学会报道,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员,与国家纳米科学中心刘前研究员合作,在《纳米快报》(Nano Letters)上发表了题为《超分辨率激光光刻技术制备 5nm 间隙电极和阵列》(5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography)的研究论文,论文讲述了该团队开发的新型 5 nm 超高精度激光光刻加工方法。
打破ASML光刻机双工件台技术垄断!华卓精科拟登陆科创板

打破ASML光刻机双工件台技术垄断!华卓精科拟登陆科创板

近日,北京证监局披露了“北京华卓精科科技股份有限公司”(以下简称“华卓精科”)的第三期辅导工作报告,该公司拟登陆科创板。而根据华卓精科官网显示,其生产的光刻机双工件台,打破了ASML公司在光刻机工件台上的技术上的垄断,成为世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司。

华虹无锡12英寸产线首批光刻机顺利进场,9月将试产

2019年6月6日上午,华虹无锡集成电路研发和制造基地一期项目再次迎来了重要阶段性成果,由华虹半导体(无锡)有限公司承担的12英寸生产线 (华虹七厂)成功实现首批光刻机的同时搬入,标志着华虹七厂建设上了一个新台阶,为9月建成投片奠定了坚实基础。