
佳能:通过改进光罩,纳米压印设备可以生产2nm芯片!
12月26日消息,日本光刻机大厂佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprinted lithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路,使得生产先进芯片的技术不再只有少数大型半导体制造商所独享。












12月25日消息,近日,小米公司因为其参与投资的尊湃通讯科技(南京)有限公司因涉…