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英伟达遭遇美国司法部两项反垄断调查

得益于人工智能(AI)芯片需求的火爆,在经历了数月的股价暴涨和乐观情绪之后,英伟达(Nvidia)近期遇到了一些障碍,不仅正在被法国竞争管理局(Autorité de la concurrence)进行反垄断调查,新的Blackwell GPU也遭遇了设计缺陷导致量产延后,近日又遭到了美国司法部的反垄断调查。

日本提出EUV光刻新方案:光源功率可降低10倍,成本将大幅降低!

ASML EUV工厂探秘,HigH NA EUV光刻机首度公开亮相
8月7日消息,近日日本冲绳科学技术大学(OIST)的Tsumoru Shintake教授带领的研究团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外(EUV)光刻机的双反射镜系统。相比传统的至少需要六面反射镜的配置,新的光学投影系统仅使用了两面反射镜,在确保系统维持较高的光学性能的同时,能让EUV光线以超过初始值10%的功率到达晶圆,相比传统系统中仅1%的功率来说,提了高到了原来的10倍,可说是一大突破。