EUV光刻光源核心部件研究获新进展，上光所锡液滴发生器达到100kHz工作频率

近日，国内权威期刊《激光与光电子学进展》日前发表由中国科学院上海光学精密机械研究所团队提交的《100 kHz重复频率锡液滴靶研究》一文。

根据该文介绍，锡液滴发生器是激光等离子体型极紫外（LPP-EUV）光刻光源中最重要的核心部件之一。光刻光源要求锡液滴靶具备高重复频率、小直径且稳定性好的特性。该论文展示了上海光机所EUV光源团队近来在液滴发生器方面的研究进展，包括液滴直径、重复频率、间距、位置和稳定性等。

现阶段，该所团队研制的锡液滴发生器实验装置，在100 kHz频率下喷射的锡液滴直径~40 μm，间距~230 μm，工作时长接近5h。锡液滴在10 s短时间内，竖直和水平方向的位置不稳定性分别为2 μm和1 μm左右。

不过对比目前商用产品，上述指标仍有较大差距，如2015年ASML产品中采用的液滴靶，可实现液滴直径为27 μm左右，频率50 kHz，液滴间距大于1 mm，最大可到3 mm，液滴30 s短时间内的位置不稳定性~1 μm，连续工作时长一个月以上，液滴直径在20 min内的不稳定性为0.5 μm。

该文表示，未来在锡液滴的可用性性能，如液滴直径、工作时长和长时间的位置稳定性还需进一步提升，相关的探测和分析手段也有待完善，以满足EUV光刻光源对液滴靶的工程需求。