
6月4日消息,根据企查查的资料显示,国内高端准分子激光技术厂商北京科益虹源光电技术有限公司(以下简称“科益虹源”)发生工商信息变更,新增华为旗下的哈勃科技投资有限公司(以下简称“哈勃投资”)、徐州光远股权投资合伙企业(有限合伙)及自然人江锐成为公司股东,同时注册资金由12000万元提升至20160万元,增幅达68%。其中,哈勃投资持股4.7619%。

资料显示,科益虹源成立于2016年7月,由中国科学院微电子所、亦庄国投、国科科仪等共
同出资设立。随着2018年3月科益虹源自主设计开发的国内首台高能准分子激光器顺利出货,打破了国外厂商的长期垄断。科益虹源也成为了中国唯一、世界第三家具备193nm ArF准分子激光技术研究和产品化的公司。
科益虹源还承担了“02重大专项浸没光刻光源研发”、“02重大专项核心零部件国产化能力建设”、“02重大专项集成电路晶圆缺陷检测光源”等国家专项。
此外,科益虹源也是国产光刻机厂商上海微电子的光源系统供应商。此前消息也显示,科益虹源还将与上海微电子整机单位共同完成28nm国产光刻机的集成工作。
而此次华为旗下的哈勃投资入股科益虹源,似乎也正是为了加码布局光刻机领域的研发。
自去年华为被美国实施第二轮制裁,使得华为自研芯片无法制造之后,业内就一直有传闻称华为在自建半导体产线,并已开始研发半导体产线所必须的关键设备——光刻机。此前曝光的招聘信息也显示,华为正在招募光刻机研发人才。去年,芯智讯还曾独家爆料,华为到多家半导体设备厂挖人的消息。
但是,造光刻机并不是一件简单的事情,系统集成只是一方面,更为关键的是,其中需要用到非常多的关键器件,而这并不是一家或几家厂商就能搞定的。
即便是国产光刻机龙头上海微电子,其自2002年成立至今也有了近20年的光刻机研发历史,但是其已量产的90nm光刻机也仅仅是ASML十多年前的水平。而这样一款并不先进的90nm光刻机,其内部结构也是非常之复杂,很多关键器件也都是由第三方供应的。
上海微电子总经理贺荣明曾表示:“SMEE最好的光刻机(90nm分辨率的光刻机),包含13个分系统,3万个机械件,200多个传感器,每一个都要稳定。像欧洲冠军杯决赛,任何一个人发挥失常就要输球。”
而ASML的EUV光刻机则拥有超过10万个零件,更是极为复杂,对误差和稳定性的要求极高,并且这些零件几乎都是定制,90%零件都采用的是世界上最先进技术,甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨,尺寸调整次数更可能高达百万次以上。
显然,华为如果真要自研光刻机,前提必须是光刻机的关键器件都能够实现国产化突破。
而对于光刻机来说,光源无疑是一大核心器件。华为通过旗下投资公司入股国产光刻机光源供应商科益虹源,似乎也正是为了助力光刻机相关核心器件的突破,以便后续为其自研光刻机铺路。
编辑:芯智讯-浪客剑
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