
据韩国《亚洲日报》7月3日报道,韩国业界3日消息称,国际半导体产业协会(SEMI)以2017年为基准进行推断,韩国的半导体原材料国产率为50.3%,并且2019年内也不会有大的改善。
随着日本公开启动对韩国的出口限制,韩国产业界没有缩小与日本企业的技术差距,导致国产化未能取得大的进展,从而成为韩国的一大短板。此前,韩国产业通商资源部曾于2月公开将半导体原材料的国产率提高到70%(2022年)设定为发展目标,开动5年内投入2万亿韩元(约合117.6亿元人民币)助力韩国大中小企业相互合作发展的项目。
韩国半导体业界相关人士表示,虽然政府试图引导韩国企业实现半导体原材料的国产化,但到目前为止并没有很大的进展。IBK经济研究所在4月份的报告书中表示,韩国的半导体产业主要生产高端半导体,因此只能使用技术领先的原材料。
因此,首先开发技术才是实现半导体原材料国产化的前提。然而,技术开发所需投入的费用接近天文数字,除大企业外中小企业根本难以靠近。即使技术开发完成,还需要回避日本企业已经取得的专利许可,这点更加困难。
据报道,韩国部分装备可以取代日本产品,但生产企业需要重新更换生产线,包括三星电子和SK海力士在内的韩国企业如果没有强烈的意志去推进也很难实现。日本限制出口到韩国的原材料中,用于涂覆在半导体基带上的感光剂“光刻胶”(PR)和用于半导体清洗的高纯度氟化氢(HF)这两种的国产率接近0%。
韩国业界介绍称,特别是在给半导体涂上回路的“路光”工程中使用的PR将为晶片涂多层,其中核心层100%为日产。
韩国PR生产企业相关人士表示,半导体技术的发展速度非常快,韩国在PR方面落后。超微回路领域,基本上被日本和美国公司占领。即便要开发新技术,投资都无从下手。除了技术上的差距之外,韩国国内暂时也没有可以取代日本PR的技术,现在只是停留在技术开发的阶段。
对于HF,韩国已经有企业开辟生产线,预计年内可以实现量产。不过韩国业界人士表示,虽然都是生产HF,但生产工艺和日本完全不同。如要生产日本同样的HF,投资费用不容小视。韩国半导体原材料想要实现国产,需要中长期的投资计划,更需要三星电子和SK海力士等大企业的强烈意愿。
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