8月27日消息，据台媒报道，中国台湾地区高等检察署智能财产分署侦办的台积电2nm核心关键技术营业秘密遭非法窃取案已侦查结束，并于8月27日依照中国台湾地区“安全法”核心关键技术营业秘密之域外使用罪、“营业秘密法”意图域外使用而窃取营业秘密罪、窃取营业秘密罪等罪嫌，起诉涉案3名工程师陈力铭、吴秉骏及戈一平，全案预计下周移审智慧财产及商业法院。

报道称，高检署智财分署查出，TEL是台积电其他制程蚀刻机供应商，想切入2nm制程，因此以测试方式寻求蚀刻机站点供应资格，但测试最终失败，而跳槽到TEL工作的前台积电工程师陈力铭，找上过往同事、台积电现任工程师吴秉骏及戈一平，通过远端登入台积电远端数据库系统方式，查看机密档案并翻拍多张照片，借此改善蚀刻机台表现等，其中有10多张照片涉核心机密，后因台积电察觉有异，展开内部调查并于今年7月8日向高检署提告。

检方获报后于7月25日至28日指挥调查局发动多波搜索及约谈行动，审讯后将陈等3人声押禁见获准；据悉，3人均坦承犯行，并争取希望依台湾地区安全法减刑。

检方认为，本案事涉地区产业命脉的国家核心关键技术，严重威胁半导体产业国际竞争力，3人犯罪情节重大，对陈力铭依涉营业秘密法“意图域外使用而窃取营业秘密罪”申请执行有期徒刑5年、“窃取营业秘密”申请执行有期徒刑3年、地区安全法“台湾地区核心关键技术营业秘密之域外使用”罪申请执行有期徒刑8年，数罪并罚申请执行有期徒刑14年。

吴秉骏涉“意图域外使用而窃取营业秘密罪”申请执行有期徒刑4年、“台湾地区核心关键技术营业秘密之域外使用罪”申请执行有期徒刑7年，两罪并罚申请执行有期徒刑9年。

戈一平涉犯“台湾地区核心关键技术营业秘密之域外使用罪”，申请执行有期徒刑7年。

检方表示，已分案续查是否有法人及自然人涉有相关刑事责任。此外，本案另有3名被告涉营业秘密法告诉乃论刑责，因台积电表明不提出告诉，检方因此予以签结。

编辑：芯智讯-浪客剑