近日，位于杭州城西科创大走廊的浙江大学成果转化基地传出喜讯：作为基地首批签约孵化项目之一，全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”已进入应用测试，其精度比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发从此有了“中国刻刀”。

在测试现场，浙大余杭量子研究院相关团队紧张忙碌着，一台模样酷似大型钢柜的机器正在做应用测试，电子显示屏上不断闪烁着实时参数。“这不是普通的机器，而是一支能在头发丝上雕刻出整座城市地图的‘纳米神笔’！”团队负责人告诉记者，依托省重点实验室，这台研究院自主研发的新一代100kV电子束光刻机“羲之”已正式投入市场。

“羲之”取名自书法家王羲之，“只不过我们的‘毛笔’是电子束，在芯片上刻写电路。”研发团队相关负责人介绍，这台设备专攻量子芯片、新型半导体研发的核心环节，它通过高能电子束在硅基上“手写”电路，精度达到0.6nm，线宽8nm，可灵活修改设计无须掩膜版，如同用纳米级毛笔在芯片上精准作画，特别适合芯片研发初期的反复调试。

此前，此类设备受国际出口管制，中国科学技术大学、之江实验室等国内顶尖科研机构长期无法采购，“羲之”的落地有望打破这一困局。记者了解到，其定价低于国际均价，目前已与多家企业及科研机构展开接洽。

“羲之”的成功并非孤例，其背后是科技创新与产业创新“两新融合”的强力驱动。今年7月，省级教育科技人才一体改革专项试点项目落地位于余杭区的浙江大学校友企业总部经济园，浙江大学与该园联手搭建了成果转化高速路：园区企业开出“技术需求清单”；浙大教授带研究生组队“揭榜”；从实验室样品到量产产品，全流程陪跑。

在城西科创大走廊，这样的融合正成为常态。院士工作站落地城投未来之星办公楼，无缝对接企业需求；城西科创大走廊连年推出优秀概念验证项目征集，打通成果转化的“最前一公里”。接下去，城西科创大走廊将持续推动“两新融合”，为硬科技突破加速赋能，推动科技成果高效转化为现实生产力。

编者按：电子束光刻机并不是一个新技术，它是通过聚焦电子束在晶圆表面直接“雕刻”电路图案，因此可以实现远超传统光学光刻的精度，可以达到亚纳米级的分辨率。但是，该技术也存在效率瓶颈（扫描速度慢、多束干扰）使其在先进制程的大规模制造中无法应用。因此，电子束光刻机目前主要被用于科研领域以及传统光刻制造流程中所需的光掩模的制造，这一领域也有不少厂商。比如，日本的Nuflare、JEOL，奥地利的IMS，美国的Zyvex Labs等。

打个形象的比喻，电子束光刻机是尖端科研与特定工业环节的“刻刀”，却非量产芯片的“印刷机”。未来如果在多束控制或混合光刻架构上取得突破，或可有限扩展应用场景，但全面替代EUV仍不现实。

编辑：芯智讯-浪客剑 文章来源：杭州日报