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SK海力士拟对NAND Flash减产10%

1月15日消息,继传闻三星电子对韩国华城的12号和17号生产线进行减产,以及对中国西安NAND Flash工厂减产10%之后,据韩国媒体TheElec报导称,SK海力士也计划今年上半年将其NAND Flash产能降低10%。

传三星西安NAND Flash工厂减产超10%!

1月13日消息,据业内传闻显示,三星电子已决定削减其位于中国西安工厂的NAND Flash投片量减少超过10%。由于目前全球NAND Flash已经供过于求,或将导致今年NAND Flash价格大幅下跌,三星电子减产举措似乎是为了推动NAND Flash价格企稳,以减少NAND Flash业务的损失。

三星完成400层NAND Flash开发,最快2025年二季度末量产

12月9日消息,根据韩国媒体BusinessKorea报道称,三星电子在其半导体研究所中已经成功完成了突破性400层堆叠NAND Flash闪存技术的开发。同时,三星也自上个月开始,将这项先进技术转移到其平泽园区一号工厂中大规模生产线。而这一重要的里程碑的达成,将使得三星处于NAND Flash技术的领先位置,将有望领先已经宣布计划量产321层NAND Flash的SK海力士。

三星将推出400+层第10代V-NAND

12月4日消息,据Tom's hardware报道,三星将在即将举行的国际固态电路会议(ISSCC)上展示新的超过400层3D NAND Flash,接口速度为5.6 GT/s。
铠侠及西部数据产能利用率已提升至90%

铠侠宣布斥资16.75亿元研发下一代内存

据《日经新闻》报道,日本NAND Flash大厂铠侠宣布,将在未来3年内,投资360亿日元(约合人民币16.75亿元),研发面向AI的下一代更省电的内存,目标在2030年代前半段实现商业化。而日本政府最高将提供50%的补贴。