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对于半导体制造来说，光刻机是极为关键的设备。数据显示，在先进制程产线当中，光刻机的成本占比高达22%，同时也在所有制造工序所消耗的时间当中占据了20%。而全球光刻机大厂ASML独家供应的EUV光刻机，则是制造7nm以下先进制程的必备设备。