ASML CEO：美国新规影响有限，可继续向中国出货非EUV光刻机！
10月19日，光刻机大厂阿斯麦(ASML)公布了2022年第三季度财报，销售额和利润均超出市场预期，新的净预订额也创下了纪录。
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ASML首席技术官：当前光刻技术或走到尽头，High-NA EUV可能成为终点
近年来，ASML站到了世界半导体技术的中心位置。去年ASML两次提高了生产目标，希望到2025年，其年出货量能达到约600台DUV（深紫外光）光刻机以及90台EUV（极紫外光）光刻机。由于持续的芯片短缺，交付问题每天都在发生，而且ASML还遇到了柏林工厂火灾这样的意外。
0.768nm！美国Zyvex Labs造出全球最高分辨率光刻机：现在下单，6个月即可交货！
众所周知，目前5nm及以下的尖端半导体制程必须要用到价格极其高昂的EUV光刻机，ASML是全球唯一的供应商。而更为尖端2nm制程的则需要用到ASML新一代0.55 NA EUV光刻机，售价或高达4亿美元。英特尔正计划利用新一代0.55 NA EUV光刻机来开发其Intel 20A（2nm）及18A（1.8nm）制程。但是，要想实现1nm以下的更先进的制程，即便是ASML新一代0.55 NA EUV光刻机也束手无策。
ASML拼命研制的新款High-NA EUV光刻机：或是最后一代
ASML一直处于高度戒备状态。
台积电将于2024年取得ASML High-NA EUV光刻机，2025年量产2nm
9月12日消息，据台湾媒体报道，目前台积电先进制程进展顺利，3nm制程将于今年下半年量产，升级版3nm（N3E）制程将于2023年量产，2nm制程将会在预定的2025年量产。
摩根大通：为应对客户砍单，台积电将关闭4台EUV光刻机！台积电回应：例行维护与升级！
9月7日消息，近日外资摩根大通（小摩）最新报告指出，台积电面临联发科、AMD、高通、英伟达等四大先进制程客户砍单，计划关闭4台极紫外光（EUV）机台以减少产出，届时月产能将锐减1.5万片，明年获利恐衰退8%，是三年来首度面临获利下滑。
先进制程晶圆厂太耗电，2025年台积电将吃掉全台12%电力
8月25日消息，据彭博社报导，为制造制程更先进、耗电更少的芯片，往往制造需要大量的电力。光刻机巨头ASML最先进极紫外（EUV）光刻机，每台预估耗电1MW（megawatt，百万瓦），约为前几代设备的10 倍，加上制造先进制程芯片还没有其他替代设备，因此半导体产业蓬勃发展，恐严重影响全球减碳进度。
ASML二季度营收54.3亿欧元，同比增长35.75%！High-NA EUV光刻机开始集成，核心部件已到货
7月20日消息，全球光刻机龙头ASML（阿斯麦）今日公布了截至2022年6月30日的第二季度财务数据。
Intel 4细节曝光：较Intel 7性能提升20%，采用“强化铜”替代“钴”
在近期于美国檀香山举行的2022年度VLSI 国际研讨会上，英特尔公布Intel 4制程的细节。英特尔表示，相较Intel 7，Intel 4 在相同功耗前提下提升20% 以上的性能，高性能元件库（library cell）密度也是Intel 4的2倍，同时还达成了两项关键目标：满足开发中产品需求，包括PC 客户端的Meteor Lake，并推动先进制程技术和模组，带领英特尔2025 年重回制程领先地位。
10年迭代缩短为3年：ASML EUV光刻机大跃进
据semiwiki日前的报道，截至 2022 年第一季度，ASML 已出货 136 个 EUV 系统，约曝光7000 万个晶圆已曝光（如下图）。台积电在早前的技术大会上则表示，在全球已经安装的EUV光刻机系统中，台积电拥有了其中的 55%。三星的实际控制人李在镕日前则拜访了荷兰总统，以寻找更多的EUV供应。
应对传统摩尔定律微缩挑战需要芯片布线和集成的新方法
EUV光刻技术已经到来，这使得在芯片上打印更小的晶体管特征和布线成为可能。但这些从业者也面临新的挑战。国际电子器件会议（IEDM 2019）的“逻辑的未来：EUV来了，现在怎么办？”圆桌论坛上，行业专家提出这种技术简化了图形化，但这并不是灵丹妙药。我列出了参会人员所讨论到的几个挑战，他们提出来的解决方案如今正在半导体行业的新路线图中逐步实现。
ASML前员工的“窃密风云”
近日，彭博社再度对于ASML与XTAL和东方晶源之间的纠葛进行了报道。
