标签: EUV光刻机

台积电亚利桑那晶圆厂已导入首台EUV光刻机,正招募2000名设备安装工程人员

据中国台湾媒体报道,晶圆代工龙头台积电位于美国亚利桑那州的晶圆厂已经正式导入了第一台极紫外光 (EUV) 光刻机。而随着建厂进入安装先进及精密设备的关键阶段,当地台积电的供应商也在持续招募员工当中。根据统计,当地预计仍有约 2,000 名相关设备安装工程人员的职位正在招募中。
每种曝光技术每晶体管成本的转变和未来预测

ASML透露0.75 NA EUV光刻设备或​将在2035年到来!

据日本媒体mynavi报道称,ASML 首席商务官 (CBO) Christophe Fouquet 近日在比利时 imec 的年度盛会 ITF World 2023 上发表了题为“Extending Lithography into the 2030s to Support the World-Changing Semiconductor Industry”的演讲。他在演讲中强调需要2030年代开发NA=0.75的超高NA EUV曝光技术。

传ASML遭砍单40%!台积电今年资本支出将缩减12%?中芯国际逆势扩产!

4月17日消息,自去年下半年以来,半导体市场需求持续下滑,今年一季度复苏也不及预期,各大存储芯片厂商纷纷减产及削减资本支出,近期晶圆代工龙头厂商台积电也传出扩产放缓及削减资本支出的消息,这也直接影响到了对于上游半导体设备的需求。据MoneyDJ报道,最新的传闻显示,荷兰光刻机大厂ASML也遭遇了大幅砍单,其2024年的订单同比恐遭削减逾40%。
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韩国企业开发出基于石墨烯材料的EUV光罩保护膜

12月15日消息,据韩国媒体BusinessKorea报导,韩国本土的半导体和显示材料开发商——石墨烯实验室 (Graphene Lab) 开发出了基于石墨烯制造的EUV光罩保护膜 (Pellicle) ,有望显著提高ASML的极紫外光 (EUV) 系统生产芯片的良率。
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华为EUV光刻相关专利曝光!国产EUV光刻机还有多远?

11月19日消息,在华为被美国限制芯片制造之后,业内就一直有传闻称华为在自研“卡脖子”的光刻机,希望打造去美化产线,以推动自研芯片的恢复生产。近日,华为申请的一项名为“反射镜、光刻装置及控制方法”的EUV光刻相关专利被曝光,这似乎也侧面印证了华为在研发光刻机的传闻。
High-NA EUV

ASML CEO:High-NA EUV将于2024年出货,每台价格至少3亿欧元!

11月15日消息,综合韩联社、koreatimes报道显示,全球光刻机龙头大厂ASML首席执行官温宁克(Peter Wennink)于今日在韩国首尔召开的一场新闻发布会上表示,ASML新一代的High-NA EUV光刻机将于2024年开始发货,每台设备的价格将在3亿至3.5亿欧元之间。